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周期性硅纳米线和纳米多孔硅的制备及其光电性能研究-凝聚态物理专业论文
ShanghaiNormalUniversityMasterofPhilosophyAbstractThesistheme:PreparationandphotoelectricpropertystudyofsiliconnanowiresandsiliconnanoholeswithperiodicalstructureMajor:CondensedMatterPhysicsApplicant:DongZhang删㈥IIIIIIIIIHIIIIIII『Y3064393Advisor:XiaomeiQinAbstractComparedtothetraditionalbulksiliconmaterial,nano—crystallinesiliconmaterialsuchasSinanowires,nano—pyram,nanoholes,hasbecomeahotresearchfieldduetotheiruniquephotoelectricpropertiesInthiswork,two—dimensionalPSspherearraystemplateisusedtographiccrystallinesilicononthewafersurface,andSiNHsandSiNWswerefabricatedviareactiveionetching(RIE)andmetalcatalyticetching,respectively.Theexperimentalconditionsaffectingtheself-assemblyoftwo—dimensionalpolystyrenesphere(PS)arrayswerestudied,andlargearea·orderedPStemplatewithclose—packedstructurewerepreparedonSisurface.Thecontentandresultswereshowedasfollow:(1)Evaporationself-assemblymethodwasusedtofabricatehigll-qualitypolystyrenemicrospherecolloidcrystalandusingethanolasdispersemedium.ThepreparationconditionofHighqualitymonolayercolloidalcrystalstemplatewasstudiedbychangingcharacteristicsofsubstratesurface,particlesize,ratioofethanolForPSdispersantwith2.5wt%concentration,thebestratioofalcoholvolumefor500nm—PSand1000nm-PSwere50%and45%,respectively.Thebestoptimumetchingpowerwas40W.(2)ThereactionprocedurebetweenSiandetchinggasesWasstudiedsystematically,whichSF6isthemainetchantofsiliconwafer,02isbothactasdiluentandprotectingsidewalls.ThemoreRF—powerofRIE,themorethedensityofgasradial,thefastertherateofetching,bmtheworsedirectivityofetching.ThekeyIII万方数据AbstractShanghaiNormalUniversityMasterofPhilosophytosolvingtheclusterproblemofnanowiresistocontrolthedepth—widthratiobelow70,andtheetchingrateundertheoptimalconditionis60nm/s(3)TheantireflectivepropertiesofSiNHsandSiNWswereinvestigatedcarefully,andsizeandperiodicityaffecttrappingeffectdirectly.BothactualmeasureddataandsimulateddatasupportedthattheperiodicityofSiNHsdependedontheminimumvalueofreflectivity.Atthesarnetime,thereflectivi
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