TiO2薄膜光催化及其亲水性能研究-材料物理与化学专业论文.docxVIP

I I 摘要 摘 要 TiO2 是 n 型金属氧化物半导体，是一种重要的无机功能材料，可用于制作 电介质材料、光催化薄膜、减反射涂层、气敏传感器等。TiO2 薄膜材料由于具 有较好的光催化和亲水特性,在环境污染、自清洁材料等较多领域里有着广泛的 应用前景。亲水和光催化反应发生在 TiO2 表面，表面的性质和结构对光催化和 亲水性有重要影响。TiO2 具有金红石、锐钛矿和板钛矿三种晶型，在一定温度 下可发生晶型的转变。 本研究采用射频磁控溅射法在玻璃、石英玻璃和硅衬底上制备TiO2薄膜。 用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、X射线光电子能谱仪(XPS)和紫外 -可见分光光度计(UV-Vis.)等现代测试技术，研究所制备纳米TiO2薄膜的结构、 形貌、组分及光学性能，探讨退火温度、厚度和衬底等因素对TiO2薄膜亲水和 光催化性能的影响。实验结果如下: (1) 随着退火温度的升高，TiO2 薄膜的晶相先由无定形向锐钛矿相转变，然后 由锐钛矿相向金红石相转变。TiO2 薄膜的表面粗糙度由未退火时的 0.413nm 减少到退火 200℃时的 0.218nm，然后随着退火温度的升高，粗糙度逐渐增 加；这是粗化效应和平滑效应两种效应互相竞争权衡的结果。退火前 TiO2 薄膜中 O/Ti 的比为 2.4，退火 1000℃后变为 3.3；TiO2 薄膜中 Ti 的价态均 为+4 价，样品表面存在羟基，并且退火后表面羟基减少。 (2) 可见光范围内 TiO2 薄膜有很高的透射率；随着退火温度的升高，薄膜平均 透射率先是逐渐增大，到 400℃时达到最大，然后透射率又逐渐减少。薄膜 的禁带宽度是随着退火温度的升高而逐渐减少，这是量子效应和晶型变化 共同作用的效果；这也与薄膜吸收边随退火温度升高逐渐红移相对应。 (3) 随着退火温度的升高，薄膜的接触角先是逐渐减少，600℃时接触角却突然 增加，然后随着温度的升高，薄膜的接触角又逐渐降低。每个样品的接触 角都是随着紫外光照时间的增加而逐渐减少；退火 400℃的 TiO2 薄膜在较 短紫外光照后就具有很好的亲水性，光照半小时后接触角为 35.6o；退火 800℃的经过长时间紫外光照射后，亲水性也变好，光照两个小时后接触角 为 14.4o。不同厚度的 TiO2 薄膜，150nm 厚的亲水性最好，光照两个小时后 接触角为 18.0o。而不同衬底的 TiO2 薄膜，玻璃衬底样品的亲水性好于石英 II II TiO2 薄膜光催化及其亲水性能研究 衬底和硅衬底的，光照两个小时后玻璃衬底样品的接触角为 19.4o。 (4) 不同退火温度的样品，退火 800℃的 TiO2 薄膜对罗丹明 B 的降解率最高， 达到 86.7%。不同厚度的样品，膜厚为 150nm 时对罗丹明 B 的光催化降解 率最大，达到 86.9%。不同衬底的样品，玻璃衬底的样品催化性最好，光照 3h 后的降解率为 89.9%。随着溶液浓度的增大，表观反应速率常数将逐渐 减少；随着降解时间的增加，光催化降解率增加，但光催化降解速率将逐 渐减小。 关键词：磁控溅射，TiO2 薄膜，光催化，亲水 PAGE PAGE IV Abstract Abstract Titatium dioxide (TiO2) has been known as a n-type metal oxide semiconductor and an important inorganic function material. It can be used in fabricating dielectric material, antireflection coating, gas sensor and so on. TiO2 films with photo-induced hydrophilic and photocatalytic properties are used in many fields. Hydrophilia reaction and photocatalysis reaction occur on the surface of TiO2. The environment and structure of the surface of the photocatalyst play an important role in hydrophilic and photocatalytic properties. There are three crystalline phases for TiO2, including rutile, anatase and brookite. Transformation of crystalline phases