快速显微共聚焦拉曼成像系统技术参数.doc

PAGE 1 PAGE 3 PAGE 1 附件 快速显微共聚焦拉曼成像系统技术参数 项号 货物名称 数量 技术参数及性能（配置）要求 1 快速显微共聚焦拉曼成像系统 1套 介绍: 快速显微共聚焦拉曼成像系统可以实现拉曼光谱和光致发光光谱测试：可实现紫外-近红外区域的拉曼光谱和光致发光光谱测试。其高分辨率成像技术通过真正的共聚焦技术，可以实现高灵敏度下，空间分辨率横向好于350nm，纵向好于800nm的快速成像。突破了高空间分辨率下的成像速度慢的技术壁垒。可以真正应用到微纳尺度尺度上的2D和3D的研究。 技术指标： 1. 基本功能： 1.1 拉曼光谱测试：可测量共聚焦显微拉曼光谱。 1.2 高分辨显微光谱成像：真正的共聚焦点扫描高速成像技术, 最小步长100 nm。可同步观测图像及分析数据。 1.3 3D扫描共聚焦拉显微图像。 1.4 微区白光反射光谱及成像：可采集任意指定位置的微区白光光谱；逐点扫描, 可采集每个像素, 任意线的完整白光光谱图 (mapping)，空间分辨率好于400nm；可同步观测图像及分析数； 2. 激光器： 2.1 532nm激光器 2.1.1 532 nm TEM00单频激光器，功率≥30 mW; ★2.1.2 软件控制，激光功率连续可调，调节精度为0.1mw ★2.1.3 软件实时显示样品表面功率，软件控制样品表面功率大小 2.1.4 拉曼光谱低波数好于：90-8000cm-1 2.2 633nm激光器 2.2.1 633 nm TEM00单频激光器，功率≥50 mW; ★2.2.2 软件控制，激光功率连续可调，调节精度为0.1mw ★2.2.3 软件实时显示样品表面功率，软件控制样品表面功率大小 2.2.4 拉曼光谱低波数好于：90-6000cm-1 2.3 325 nm激光器 2.3.1 325nm 激光器，25mw； 2.3.2 激光功率连续可调 2.3.3 拉曼光谱低波数好于120cm-1； 3. 光谱仪与检测器系统: ★3.1 光谱仪焦长：≥300 毫米；同时配备150,600及1800刻线三块光栅，可实现软件控制自动切换，无需手动更换光栅 3.2 光谱分辨率：优于1.5 cm-1； 3.3 光谱重复性： 3.3.1 优于0. 02 cm-1； 3.3.2 检测标准：在日常实验条件下，使用单晶硅，采用532 nm激发及100x物镜，重复100次，观察硅520 cm-1拉曼峰位置的可重复性。 ★3.4 共聚焦高灵敏度： 3.4.1 共聚焦测试条件下,能清晰地观察到硅的四阶拉曼峰，其中硅的三阶拉曼峰（约1440 cm-1）信噪比好于25:1，要求无明显的N2和O2拉曼峰; 3.4.2 检测标准：使用单晶硅片，激光波长532 nm，激光功率不超过10.0 毫瓦，共聚焦针孔直径= 50 微米，积分时间60秒，累积5次，显微镜镜头为50x或100x。 ★3.5 光谱检测器：采用开放电极CCD, 峰值量子效率=55%, TE制冷至-60度。 4. 共聚焦拉曼/荧光成像： ★4.1 真实针孔共聚焦系统：为了获得最佳的共聚焦效应，要求系统采用真正的针孔共聚焦，而非狭缝式的赝共聚焦. 4.2 快速（积分时间=0.01 s）实时监测拉曼光谱，优化实验参数。 4.3快速成像：全光谱成像，单窗口（100-4000cm-1）大光谱范围采集，时间可≤10毫秒。 ★4.4 横向（XY方向）光学空间分辨率： 4.4.1使用100倍干物镜和共聚焦孔不小于50 um时，拉曼成像横向光学分辨率：≤350 nm @ 532 nm，越高越好。 4.4.2检测条件: 以直径不超过50 nm的一维纳米材料为样品(石墨烯完美边缘也可以，光栅样品不可接受), 以50 nm为步长沿垂直纳米材料方向做拉曼线扫描, 获得纳米材料拉曼强度的空间分布曲线，其强度变化曲线的半峰宽即为拉曼成像横向光学分辨率。 ★4.5 纵向（Z方向）空间分辨率： 4.5.1 使用100倍干物镜和共聚焦孔不小于50 um时，拉曼成像纵向光学分辨率：≤800 nm@532 nm，越高越好。 4.5.2 检测条件: 以悬空的少层石墨烯为样品, 以50 nm为步长沿Z轴方向做拉曼线扫描, 使用100X物镜，获得石墨烯G峰拉曼强度的空间分布曲线，其强度变化曲线的半峰宽即为拉曼成像纵向光学分辨率 5. 研究级共聚焦开放式光学显微镜： 5.1 光学显微镜采用科勒照明方式，具有反射和投射照明模式 5.2 系统配有大范围全自动机械平台：全自动机械平台大于50*50mm，最小步长100 nm 5.3 高精度自动Z轴电机，要求移动范围：= 30 mm, 最小步长的精度高于10 nm. ★5.4 可采集微区白光反射光谱 5.4.1白光光谱