膜系设计结构及调试.pptVIP

工艺部专题讲座 膜系设计、结构及调试 主要内容： ? 1. 膜系设计原理 ? 2. 膜系结构 ? 3. 调试过程 ? 光学设计 1. 宏观薄膜干涉理论 ? 干涉的条件：同一光源发出、频率相同、振动方向相同、路径不同、相位差恒定 ? 干涉的结果：相长和相消 ? 利用干涉现象，通过调节膜厚来改变颜色或反射率的分析 （ 1 ）叠加原理 -90 ° ~+90 °之间发生相长干涉； 90 ° ~270 °之间发生相消干涉 （ 2 ）界面反射光线的相位变化 当光线由光疏介质进入光密介质时，界面处的反射光线会有 180 °的相位变化 （ 3 ）进入光密介质被压缩 用于计算膜层 1/4 波长的光学厚度。 eg:550nm 处得到一个 1/4 波长厚度的 SiO2(n=1.45) 膜层的计算： 真空 1/4 波长： 550 ÷ 4=137.5 在 SiO2 中被压缩后的修正值： 137.5 ÷ 1.45=94.8 在 550nm 处得到 1/4 波长光学厚度， SiO2 的膜层厚度应该约为 95nm 。 举例：设计一个 SiO2 膜，尽可能地削弱在 550nm 处的反射 分析： 两列光在界面处反射都有 180 °相位变化，相互抵消，由路径带来的相位变化即为最终的相位变化； 尽可能削弱 550nm 处反射，相消干涉， 180 °路径相位差，则需 1/4 波长光学厚度，因为 1/4+1/4=1/2, 95nm 在 275nm 处， 95nm 厚的膜是半波的长度， 1/2+1/2=1 路径差产生 360 °相位差， 相长干涉，反射增强。 另外，如果膜厚超过 95nm ，那么最小反射率会红移，即向更长波长方向，膜层的颜色也会发生变化 550nm 处最小处时，发射颜色是蓝色和红色光线的中和，眼睛看起来为紫色。 限制： 多次反射；多层膜；频散； 2. 微观材料特性模型 + 电磁理论 （ 1 ） 基础理论： 光是一种电磁波能量 材料具有一定形式的微观结构：自由电子、振动的原子和晶格、能级结构等 光作用用材料上，会引起材料微观的运动形式发生变化，反过来影响光波的电磁场 （ 2 ） 处理方法： 光 —— 电磁波动学，波动方程表示 材料 —— 根据不同的材料类型，采用不同的处理方法， 经典传播理论中处理原子或晶格振动吸收的物理偶极震荡模型， 处理带间跃迁吸收的量子力学模型等 两者先联系，再结合材料本身的电磁性质方程，得到材料的光学常数模型 （ 3 ）数学计算 电磁学方程和光的波动方程加上数学推导，得到了一些列单层、多层膜的反射率、透过率、吸收的计算公式 这些计算公式形式： R = f ( 波长、入射角度、材料光学常数、膜层厚度 ) 以上这些是构成薄膜设计的计算基础，是准确计算复杂膜层光学性能的依据，也是软件模拟计算的基础 以 Lorentz 原子谐振子模型为例说明： 在外电场作用下，原子内部电子和原子核会偶极化，即偏离正常位置，并且围绕平衡位置做 周期运动，在此过程中彼此碰撞会造成能量损耗，故模型化为阻尼谐振器。电子受到加速力、 阻力、回复力以及光辐射的电场力，综合电子的位移和受力总结得到以下方程： 代入光的波动方程： 得到电子的位移表达式 结合材料本身的电磁性质方程，极化强度矢量： 电位移矢量： 将极化强度 P resonant 代入可解得该材料的介电常数（即光学常数，折射率与其为平方关系）与频率的表达式： 再将该光学常数代入到上文我们所说的 R = f ( 波长、入射角度、材料光学常数、膜层厚度 ) ? 晶格匹配 首先考虑光学性能，当力学性能出现问题是再考虑晶格匹配的问题，但一般情况下情况溅射膜层材料通常是多晶结 构，晶格匹配比较容易满足，不做详细考虑。 主要内容： ? 1. 膜系设计原理 ? 2. 膜系结构 ? 3. 调试过程 ? 各种产品膜系结构 玻璃基底 底层介质层 功能层 阻挡层 中间介质组合层 功能层 阻挡层 顶层介质层 双银 low-E 玻璃 单银 low-E 玻璃 玻璃基底 底层介质层 阻挡层 功能层 阻挡层 顶层介质层 介质层： 提高附着力、改善透光性、调色 阻挡层： 保护 Ag 层、增强接触性 功能层： 红外反射、改善热性能 玻璃基片 SiN: 30-40 nm SiN: 35-50 nm NiCr: 3-5 nm Ag: 7-10 nm NiCr: 3-5 nm 玻璃基片 SiN: ZnSnO: ZnO: Ag: 7-10 nm NiCr(O): 3-5 nm SiN: 30-50 nm 30-50 nm 玻璃基片 SiN: ZnSnO: ZnO: Ag: 6-8 nm N