第三章 真空蒸镀.pptVIP

对电阻式蒸发源的五点要求 : ? 蒸发源材料的自身熔点要高 ; ? 饱和蒸汽压要低 ; ? 化学性能要稳定，且具有良好的耐热性，热源 变化时，功率密度变化较小； ? 成本低 ; ? 蒸发源对膜材料的“湿润性”好。 钽（ Ta ） 、 钼（ Mo ） 、 钨（ W ） 等 电阻式蒸发源的特点： ? 结构简单、使用方便、造价低廉，因此使用普遍 ; ? 常用来蒸发蒸发温度小于 1500 o C 的铝、金、银等金 属，蒸发一些硫化物、氟化物和某些氧化物。 ? 结构 2 、电子束加热蒸发源 根据电子束蒸发源的形式不同，电子束蒸发源可以分为： 环形枪、 直枪、 e 型枪 和空心阴极电子枪等几种 直枪蒸发源 e 电子枪的工作原理 ? 优点 : 2 、电子束加热蒸发源 1) 与电阻加热源相比可以减少污染 ; 2) 能量集中 , 使膜料局部表面受到很高的温度 , 而其它 部分的温度低。因而，可使高熔点（可以高达 3000 o C ）的材料蒸发 , 且有较高的蒸发速率； 3) 可以准确、方便地控制蒸发温度； 4) 有较大的温度调节范围，对高、低熔点的膜料都适 用，适用性宽，特别适合蒸镀熔点高达 2000 o C 左 右的氧化物。 ? 缺点 : 1) 通常蒸镀的膜层较薄 ; 2) 蒸镀的薄膜组分复杂。 3 、激光蒸发源 通过聚焦可使激光束功率密度达到 以上， 积在基片上形成薄膜的方法。使用高功率的连续或 脉冲激光束作为能源进行薄膜的蒸发沉积的方法被 称为激光沉积法。 ? 通过聚焦可使激光束 功率密度达到 10 6 W/cm 2 以上 ， 它是以无接触加热的方式使膜料迅速气化，然后淀 积在基片上形成薄膜的方法。使用高功率的 连续 或 脉冲 激光束作为能源进行薄膜的蒸发沉积的方法被 称为 激光沉积法 。 3 、激光蒸发源 激光蒸发装置简图 反射镜 在外边 反 射 镜 在 里 边 激光蒸发装置简图 ? 优点 : 3 、激光蒸发源 1) 能蒸发任何高熔点材料，可以蒸发各种材料，且获 得很高的蒸发速率 ; 2) 与电阻加热蒸发源相比可以减少镀膜受污染； 3) 非常适合于蒸发化合物或合金； 4) 与电子束蒸发源相比，它避免了电子束蒸发膜面带 电的缺点。 ? 缺点 : 1) 长时间工作，激光进入钟罩窗口处的透镜会受到 影响 ; 2) 激光蒸发器较昂贵，且并非对所有材料都显示其 优越性； 3) 由于蒸发材料温度太高，蒸发粒子（原子、分子、 簇团等）多易离子化，从而会对膜结构和特性产 生一定影响。 4 、高频感应蒸发源 ? 工作原理 高频感应加热源的工作原理 优点 缺点 ? 优点 : 1) 它是面蒸发，蒸发速率大，可以比电阻蒸发源 大 10 倍左右； 2) 蒸发源的温度均匀稳定，不易产生飞溅现象； 3) 蒸发源一次装料，无需送料机构，温度控制较 容易，操作比较简单。 ? 缺点 : 1) 因为接触易造成污染； 2) 只能蒸发导电的膜料； 3) 设备必须屏蔽，且需要复杂和昂贵的高频 发生器。 GO 蒸发材料 常用的蒸发材料介绍 1 、铝（ Al ） 铝薄膜可用作导体、电容器电极、反射器及装饰品等。 因铝与玻璃、陶瓷、硅片的附着力好，常用作引线。 m.p. 660 o C p v =10 -2 Torr 时， T ＝ 1217 o C 蒸发材料 1 、铝（ Al ） 1100 ℃以上开始迅速蒸发。在蒸发温度时，铝 是一种高度流动的液体，它对难熔材料极易相湿并 在其表面上流动，同时可以深入到难熔材料的微孔 中。熔化的铝在真空中化学活性非常强，因此必须 认真选择蒸发源。目前，多采用钨丝或者钽丝作为 蒸发源。 More 蒸发材料 2 、铜（ Cu ） m.p. 1083 o C p v =10 -2 Torr 时， T ＝ 1257 o C 导电性好，可焊性好，常用作导线。 （ 1 ）铜与玻璃、陶瓷、硅片的附着力不是很好； （ 2 ）易氧化。 缺点： 上一层保护层以防氧化 加过渡层改 善附着性 蒸发材料 2 、铜（ Cu ） 对铜建议采用钨螺旋丝或者钨、钽舟，并且必须 注意维持蒸发温度恒定。 More 蒸发材料 3 、金（ Au ） m.p. 1064 o C p v =10 -2 Torr 时， T ＝ 1397 o C 化学稳定性好。 （ 1 ）贵； （ 2 ）与玻璃、陶瓷、硅片的附着力差。 缺点： 加过渡层 Ti 或 Cr 改