集成电路设计原理绪论集成电路发展历程.pptVIP

* * 三、 应用领域 据美国半导体协会（SIA）预测 电子信息服务业 30万亿美元 相当于1997年全世界GDP总和 电子装备 6-8万亿元 集成电路产值 1万亿美元 GDP≈50万亿美元 2012年 * * 四、 集成电路的类别 逻辑电路（Logic)，又称数字电路（Digital） 产品以CMOS型为主，尤其是规模大的电路 模拟电路（Analog）原称线性电路（Linear）  产品以双极为主， CMOS是目前研究方向 数模混合电路（Mixed）  产品以Bi-MOS居多，CMOS是目前研究方向 集成电路设计原理 微电子 * * * * 绪 论 * * 1. 集成电路的概念 把多个器件及其间的连线以批加工方式同时制作在一个芯片上。 1952年 G.W.A.Dummer在华盛顿学会上提出了集成电路(IC—Integrated Circuit)的概念： 一、集成电路发展历程 * * 2. 集成电路概念解释 这是PCB（印刷电路版），不是集成电路，其中用到很多集成电路和分立元件） 3DK4 管芯 555定时器芯片 一、集成电路发展历程 * * 3.特征尺寸 集成电路器件中最细线条的宽度，对MOS器件常指栅极所决定的沟导几何长度，是一条工艺线中能加工的最小尺寸。 反映了集成电路版图图形的精细程度，特征尺寸的减少主要取决于光刻技术的改进（光刻最小特征尺寸与曝光所用波长）。 一、集成电路发展历程 * * 一、集成电路发展历程 微米 Micrometer: 1.0?m  (1.0?m 1.2?m 1.5?m 2?m 3?m 4?m 5?m…) 亚微米(SM -- Sub-Micrometer): 0.8?m 0.6?m 深亚微米(DSM-- Deep Sub-Micrometer): 0.5?m 0.35?m 0.25?m 超深亚微(VDSM--Very Deep Sub-Micrometer)  0.25?m 0.18?m 0.13?m 纳米：0.09?m (90nm) 0.07?m (70nm) 0.45?m (45nm) * * 一、集成电路发展历程 50?m 100?m 头发丝粗细 30?m 90年代生产的集成电路中晶体管大小与人类头发丝粗细、皮肤细胞大小的比较 1?m ? 1?m (晶体管的大小) 30~50?m (皮肤细胞的大小) * * 一、集成电路发展历程 4. 集成度、规模 包含的晶体管数目或等效逻辑门(2输入的NAND)的数量。1个2输入的NAND=4个晶体管 。 * * 一、集成电路发展历程 1958年第一块集成电路：TI公司的Jack Kilby，12个器件，Ge晶片 * * SSI (Small Scale Integration) 102 MSI (Middle Scale Integration) 102-103 LSI (Large Scale Integration) 103-104 VLSI (Very Large Scale Integration) 105-107 ULSI (Ultra Large Scale Integration) 107-109 GSI (Gigantic Scale Integration) 109 4. 集成度、规模 一、集成电路发展历程 * * 一、集成电路发展历程 1.5吋(40mm) 2吋 (50mm) 3吋 (75mm) 4吋(100mm) 6吋(150mm) 8吋(200mm) 12吋(300mm) 16吋(400mm) 5. 晶圆（Wafer)直径 *