《材料制备与表征》课程教学大纲.docxVIP

第 PAGE 1 页/共 NUMPAGES \* Arabic 5 页 《材料制备与表征》课程教学大纲 课程编号总学时数：48 总学分数：3 课程性质：方向选修 适用专业：应用物理学 一、课程的任务和基本要求： 本课程包括材料制备技术和材料表征技术，是应用物理学专业光电材料与器件方向的模块课程。学生通过学习要掌握以下基本内容：材料制备技术内容包括晶体结构、晶体缺陷、成核理论、界面的平衡结构、晶体生长动力学、单晶材料的制备、薄膜材料的制备、陶瓷材料的制备、复合材料的制备和材料工程新技术，重点是先进人工晶体的材料制备科学与技术。材料表征技术主要包括X射线衍射分析、电子显微分析、热分析、振动光谱、光电子能谱、穆斯堡尔谱、色谱等各种测试方法的物理原理、仪器的功能和应用范围。学生通过学习可以掌握材料制备技术和常用测试方法，为以后的学习工作和进一步研究打下基础。该课程有部分内容在其他课程中出现过，在此只作简单介绍。 二、基本内容和要求： 上部分：材料制备技术 第一章 晶体结构和晶体缺陷 　1.1　晶体学基础 　1.2　空间点阵 　1.3　 　1.4　密堆积与配位数 　1.5　晶体结合键型 　1.6　元素晶体结构 　1.7　几种典型晶体结构 1.8点缺陷 1.9线缺陷 1.10面缺陷 目的和要求：掌握晶体结构基本知识和晶体中存在的缺陷，分析晶体中缺陷来源种类。 第二章 成核理论　 2.1　相变驱动力　 2.2　弯曲界面的平衡与相变位垒　 2.3　均匀成核　 2.4　非均匀成核　 2.5　再结晶成核 2.6　单相固溶体的凝固 目的和要求：掌握材料中原子如何结合和生长成核的知识点。 第三章 界面的平衡结构 3.1　晶体的平衡形状　 3.2　生长界面结构的基本类型 3.3　柯塞尔模型　 3.4　杰克逊模型　 3.5　特姆金模型　 目的和要求：了解掌握界面的基本种类，不同描述形式之间的区别和特点。 第四章 晶体生长动力学　 4.1　邻位面的生长——台阶动力学与运动学　 4.2　光滑界面的生长　 4.3　粗糙界面的生长　 4.4　晶体生长动力学统一理论　 4.5　晶体生长形态学 目的和要求：掌握晶体生长的基本理论，晶体界面核动力研究。 第五章 单晶材料的制备　 5.1　气相生长法　 5.2　水溶液生长法　 5.3　水热生长法　 5.4　熔盐生长法　 5.5　熔体生长法 目的和要求：掌握单晶材料制备方法，了解不同制备方法的优缺点。 第六章 薄膜材料的制备　 6.1　薄膜的形成机理　 6.2　物理气相沉积　 6.3　化学气相沉积　 6.4　化学溶液镀膜法　 6.5　液相外延制膜法　 6.6　膜厚的测量与监控 目的和要求：掌握薄膜材料形成的机理和常用制备方法。 第七章 陶瓷材料的制备　 7.1　陶瓷的组成相及其结构　 7.2　陶瓷的制备工艺　 7.3　装置瓷　 7.4　电容器陶瓷　 7.5　压电陶瓷 7.6　铁氧体　 7.7　高温陶瓷 目的和要求：掌握陶瓷材料组成和不同陶瓷组成的材料制备方法。 第八章 复合材料的制备　 8.1　复合材料的一般概念　 8.2　颗粒增强复合材料　 8.3　夹层增强复合材料　 8.4　纤维增强复合材料　 8.5　树脂基复合材料　 8.6　金属基复合材料　 8.7　陶瓷基复合材料 　目的和要求：掌握常用复合材料的制备方法。 第九章 材料工程新技术　 9.1　低维材料　 9.2　纳米材料与制备技术　 9.3　金属有机物化学气相沉积　 9.4　化学束外延和原子层外延　 9.5　激光沉积与激光釉化　 9.6　梯度功能材料　 9.7　智能材料与结构 目的和要求：掌握新型材料功能和制备方法。 下部分：材料表征部分 第十章　X射线衍射分析　 10.1　X射线物理基础　 10.2　X射线衍射几何条件　 10.3　单晶体的研究方法　 10.4　多晶体的研究方法　 10.5　衍射仪法　 10.6　X射线物相分析　 10.7　晶胞参数的测定　 目的和要求：掌握X射线的衍射的基础知识和电磁波理论。 第十一章　电子显微分析　 11.1　电子光学基础　 11.2　电子与固体物质的相互作用　 11.3　透射电子显微分析　 11.4　扫描电子显微分析　 11.5　电子探针X射线显微分析　 11.6　分析电子显微镜 11.7　电子显微分析在无机非金属材料科学中的应用 目的和要求：掌握电子显微镜的基本原理，知道不同探针的工作模式。 第十二章　热分析　 12.1　概述　 12.2　差热分析　 12.3　热重分析　 12.4　热膨胀法　 12.5　其他热分析方法 目的和要求：掌握掌热分析的基本原理和分析方法。第十三章　振动光谱　 13.1　振动光谱的基本原理　 13.2　红外光和红外光谱　 13.3　红外分光光度计　 13.