半导体制造技术导论(第二版)萧宏 第7章 等离子体工艺.pptxVIP

  • 65
  • 0
  • 约9.97千字
  • 约 68页
  • 2023-04-26 发布于湖北
  • 举报

半导体制造技术导论(第二版)萧宏 第7章 等离子体工艺.pptx

2023/4/211第7章 等离子体工艺 本章主要内容 7.3 等离子体系统 7.2 等离子体参数 7.5 本章小结 7.1 等离子体基本概念 7.4 等离子体工艺 27.1 等离子体基本概念 等离子体的用途 等离子体的产生 本节主要内容 何为等离子体 3 何为等离子体—定义What Is Plasma? (什么是等离子体)A plasma(等离子体) is a ionized gas(离化的气体) with equal numbers of positive and negative chargesA more precise definition(更准确的定义): a plasma is a quasi-neutral gas (准中性的气体) of charged(带电的) and neutral(中性的) particles which exhibits collective behavior(集体行为). 4 何为等离子体—成分 A plasma(等离子体) consists of neutral(中性的) atoms(原子) or molecules(分子), negative charges (electrons) and positive charges (ions) Quasi-neutral(准中性): ni ≈ ne Ionizati

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档