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半导体制造过程控制系统（PCS）系列：光刻控制系统_4.光刻机台的类型与选型.docx

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    4.光刻机台的类型与选型

    4.1光刻机的基本类型

    在半导体制造过程中，光刻机是至关重要的设备之一。光刻机的类型多种多样，每种类型的光刻机都有其特定的应用场景和技术特点。以下是一些常见的光刻机类型：

    4.1.1接触式光刻机

    接触式光刻机是最传统的光刻设备，其工作原理是将掩模直接接触在光刻胶上，通过紫外光的照射将掩模上的图案转移到光刻胶上。这种类型的光刻机结构简单，分辨率较高，但缺点是掩模容易损坏，且不能用于大规模生产。

    4.1.2近接触式光刻机

    近接触式光刻机是在接触式光刻机的基础上改进而来，掩模与光刻胶之间留有微小的间隙，通常在几十微米到几百微米

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