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摘要
摘要
氧化铈颗粒被广泛运用为化学机械抛光（CMP）中的抛光磨粒以确保所需
材料的去除和整体平坦化。由于与CeO2晶格的高度相容，三价镧系离子常被
用做掺杂剂以丰富CeO表面缺陷，改善物理化学性质，并提高CMP性能。
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本研究以碳酸氢铵为沉淀剂，氯化铈为铈源，氯化镨、氯化镧和氯化钇为
掺杂剂，通过简单的共沉淀法，制备了一
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