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2025年化工工程师先进控制技术应用专题试卷及解析1

2025年化工工程师先进控制技术应用专题试卷及解析

2025年化工工程师先进控制技术应用专题试卷及解析

第一部分：单项选择题（共10题，每题2分）

1、在模型预测控制（MPC）中，以下哪项是其核心优势？

A、仅适用于线性系统

B、能够处理多变量耦合和约束问题

C、不需要过程模型

D、控制响应速度最快

【答案】B

【解析】正确答案是B。模型预测控制（MPC）的核心优势在于其能够处理多变量耦合

问题，并能在控制优化中显式处理输入和输出约束，这使得它在复杂化工过程控制中表

现出色。A选项错误，MPC有适用于非线性系统的扩展（如非线性MPC）；C选项错

误，MPC的基础就是过程模型；D选项错误，MPC的计算复杂性可能导致其响应速度

不如PID等简单控制器快。知识点：MPC的基本原理和特点。易错点：容易将MPC

与PID等其他控制器的特点混淆，或忽略其处理约束的能力。

2、在先进控制系统中，软测量技术主要用于解决什么问题？

A、提高控制回路的响应速度

B、替代硬件传感器测量难以直接测量的关键变量

C、增强系统的抗干扰能力

D、简化控制算法的复杂性

【答案】B

【解析】正确答案是B。软测量技术（或称推断仪表）的核心目的是利用易于测量的辅

助变量，通过建立数学模型来估计那些难以或无法用硬件传感器直接在线测量的关键

过程变量（如产品组分浓度）。A和C是控制系统的目标，但不是软测量的直接目的；

D选项错误，软测量本身可能涉及复杂的模型，其目的不是简化算法。知识点：软测量

技术的定义与应用场景。易错点：可能将软测量的目的与其他控制技术的目标相混淆。

3、关于分布式控制系统（DCS）与可编程逻辑控制器（PLC）的描述，以下哪项最准确？

A、DCS主要用于顺序控制，PLC主要用于过程控制

B、DCS和PLC在功能上完全相同，只是名称不同

C、DCS更侧重于连续过程的监控与控制，PLC更侧重于离散或顺序逻辑控制

D、PLC的系统可靠性和冗余配置通常高于DCS

【答案】C

【解析】正确答案是C。DCS（分布式控制系统）传统上是为大型连续过程工业（如化工、

炼油）设计的，强调过程监控、回路控制和系统整体协调。PLC（可编程逻辑控制器）

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则起源于替代继电器，擅长处理高速的离散逻辑和顺序控制（如开关量、电机启停）。A

选项描述反了；B选项错误，两者在架构、应用侧重和设计理念上有显著区别；D选项

错误，DCS通常具有更高的系统级冗余和可靠性设计，以满足过程工业对安全稳定运

行的高要求。知识点：DCS与PLC的特点与区别。易错点：容易混淆两者的主要应用

领域和设计初衷。

4、在实施先进控制（APC）项目时，通常第一步需要进行的关键工作是？

A、编写详细的控制程序代码

B、进行控制器的参数整定

C、进行过程测试和模型辨识

D、直接上线运行并观察效果

【答案】C

【解析】正确答案是C。先进控制（如MPC）是基于模型的控制策略，因此，在项目实

施初期，必须通过有计划的过程测试（如阶跃测试或伪随机二进制序列测试）来获取动

态数据，并基于这些数据辨识出能够准确描述过程行为的数学模型。模型是后续控制器

设计和仿真的基础。A、B、D都是在模型建立之后或项目后期的工作。知识点：先进

控制项目的实施步骤。易错点：可能会忽略模型在APC中的基础性地位，急于进行编

程或整定。

5、下列哪种控制结构最适用于处理具有大纯滞后的过程？

A、比例积分（PI）控制

B、前馈控制

C、史密斯预估控制（SmithPredictor）

D、开关控制（OnOffControl）

【答案】C

【解析】正确答案是C。史密斯预估控制是一种专门用于补偿大纯滞后（或称死区时间）

影响的控制方案。它通过引入一个与过程并联的预估模型，提前预测无滞后时的过程输

出，从而改善控制品质。PI控制对大纯滞后效果不佳；前馈控制主要用于克服可测量

的扰动，对纯滞后本身无补偿作用；开关控制精度低，不适用于需要精确控制的场合。

知识点：大纯滞后过程的控制策略。易错点：可能不清楚史密斯预估器的特定应用场景，

或将其与前馈控制混淆。

6、在化工过程控制中，