CN111378571B 用于操作霉菌检测装置的系统和方法 （罗伯特·博世有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN111378571B(45)授权公告日2025.07.15

(21)申请号201911426216.3

(22)申请日2019.12.31

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN111378571A

(43)申请公布日2020.07.07

(30)优先权数据

62/7870622018.12.31US

16/7119852019.12.12US

(73)专利权人罗伯特·博世有限公司地址德国斯图加特

(72)发明人S.Y.余F.莱尔默C.彼得斯

N.王T.罗茨尼克

(74)专利代理机构中国专利代理(香港)有限公司72001

专利代理师张婧晨王丽辉

(51)Int.CI.

C12M1/38(2006.01)

C12M1/36(2006.01)

C12M1/26(2006.01)

C12M1/12(2006.01)

C12M1/00(2006.01)

(56)对比文件

US2007031916A1,2007.02.08CN104685047A,2015.06.03

审查员吕凌威

权利要求书2页说明书28页附图14页

(54)发明名称

用于操作霉菌检测装置的系统和方法

(57)摘要

CN111378571B用于检测霉菌的系统包括壳体，该壳体限定腔和通过表面的开口。系统包括用于选择性地覆盖开口的可移动格栅。系统包括被处理以促进霉菌生长的基质。系统包括用于使基质移动以将先前未暴露的部分移动到腔中的机构。系统包括热控制系统，该热控制系统用于维持在腔中的预定环境条件。系统包括配置为检测在腔中的霉菌生长的传感器。系统包括霉菌抑制器，该霉菌抑制器在被激活时杀死在腔中的霉菌。系统包括控制

CN111378571B

CN111378571B权利要求书1/2页

2

1.一种用于检测霉菌的系统，所述系统包括：

壳体，所述壳体限定腔，并且限定通过所述壳体的表面的开口；

可移动格栅，所述可移动格栅设置在所述壳体上并且被配置为选择性地覆盖所述开

口；

基质，所述基质被处理以促进霉菌生长；

基质推进机构，所述基质推进机构配置为使在腔外部的所述基质的未暴露部分选择性地移动到所述腔中，并且使腔内的所述基质的暴露部分移动离开所述腔；

温度传感器，所述温度传感器设置于所述腔中；

加热元件，所述加热元件设置于所述腔中；

传感器，所述传感器被配置为检测在所述腔内的基质上的霉菌生长；

光源，所述光源设置于所述腔中并且被配置为在被激活时杀死在所述腔内的霉菌；以及

控制器，所述控制器被编程为响应于起始霉菌检测周期而操作所述基质推进机构，以将所述基质的未暴露部分从所述腔外推进到所述腔中。

2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述控制器进一步被编程为致动所述可移动格栅，以在预定持续期间内允许空气进入所述腔中。

3.根据权利要求1所述的系统，其中，所述控制器进一步被编程为操作所述加热元件，以在所述霉菌检测周期期间维持在所述腔内的预定温度。

4.根据权利要求1所述的系统，其中，所述控制器进一步被编程为操作所述传感器，以在所述霉菌检测周期期间，检测存在于所述腔内的霉菌的量。

5.根据权利要求1所述的系统，其中，所述控制器进一步被编程为响应于完成所述霉菌检测周期而激活所述光源以杀死在所述腔内的霉菌。

6.根据权利要求5所述的系统，其中，所述控制器进一步被编程为，在所述光源被激活时，操作所述传感器以检测所述霉菌生长中的变化。

7.根据权利要求1所述的系统，其中，所述传感器是气体传感器，所述气体传感器配置为测量在所述腔内的由霉菌生长所引起的微生物的挥发性有机化合物(mVOC)。

8.根据权利要求1所述的系统，其中，所述控制器进一步被编程为激活所述光源，以在所述霉菌检测周期期间调节在所述腔中的霉菌生长速率。

9.根据权利要求1所述的系统，其中，所述控制器进一步被编程为使所述光源产生脉冲，并且评估在暴露于所述光源之前和之后来自所述传感器的测量结果的差异，以确定霉菌强度。

10.一种方法，所述方法包括：

通过控制器激活基质推进机构，以使利用营养物处理过的基质的未暴露部分从由壳体限定的腔外移动到该腔中；

通过所述控制器打开覆盖由所述壳体限定的开口的门，以允许空气进入所述腔达预定时间；以及

通过所述控制器