1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 行业资料
  5. 化学工业

用于二氧化硅介质的抛光液.doc

用于二氧化硅介质的抛光液.doc

    用于二氧化硅介质的抛光液

    原料配比

    原料

    配比（质量份）

    1#

    2#

    CeO2磨料，粒径100~120nm

    20

    －

    水溶硅溶胶磨料，粒径为60~80nm

    －

    37.5

    脂肪醇聚氧乙烯醚

    0.5

    －

    烷基醇酰胺

    －

    0.75

    氢氧化钾

    2

    3

    双氧水

    2

    1.5

    去离子水

    75.5

    57.25

    制备方法首先将制备抛光液的水溶硅溶胶磨料、表面活性剂、PH值调节剂、氧化剂和去离子水，分别进行过滤净化处理，然后在千级净化室的环境内，将各种组份在真空负压的动力下，通过质量流量计输入容器罐中并充分搅拌，混合均匀即可。

    原料配伍本品各组分质量份配比范围为：磨料10~50、表面活性剂0.01~0

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >