CN101915949A 光学测量用余弦光强分布物理结构光栅的设计与制作方法 （上海交通大学）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN101915949A

(43)申请公布日2010.12.15

(21)申请号201010247652.7

(22)申请日2010.08.06

(71)申请人上海交通大学

地址200240上海市闵行区东川路800号

(72)发明人习俊通许伟陈晓波

(74)专利代理机构上海交达专利事务所31201代理人周文娟

(51)Int.CI.

GO2B5/18(2006.01)

GO2B27/00(2006.01)

GO1B11/25(2006.01)

权利要求书1页说明书3页附图2页

(54)发明名称

光学测量用余弦光强分布物理结构光栅的设计与制作方法

(57)摘要

CN101915949A光学测量用余弦光强分布物理结构光栅的设计与制作方法，属于机械工程和光学测量技术领域。本发明按照测量要求，设计光栅的尺寸大小，建立光栅尺寸与图像之间的对应关系，利用MATLAB软件设计9幅满足三频三步相移编码方案的灰度图，并使用抖动函数dither将灰度图转化为黑白二值图。再在Ledit软件中设计光栅，利用电子束扫描光刻机制作光栅。本