CN102183602A 一种高深宽比微型气相色谱柱及其湿法腐蚀制作方法 (电子科技大学).docxVIP

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CN102183602A 一种高深宽比微型气相色谱柱及其湿法腐蚀制作方法 (电子科技大学).docx

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN102183602A

(43)申请公布日2011.09.14

(21)申请号201110029478.3

(22)申请日2011.01.27

(71)申请人电子科技大学

地址611731四川省成都市高新区(西区)

西源大道2006号

(72)发明人杜晓松王力廖明杰蒋亚东

(51)Int.CI.

GO1N30/60(2006.01)

B81C1/00(2006.01)

权利要求书1页说明书4页附图2页

(54)发明名称

一种高深宽比微型气相色谱柱及其湿法腐蚀制作方法

(57)摘要

CN102183602A本发明公开了一种高深宽比微型气相色谱柱及其湿法腐蚀制作方法,该微型气相色谱柱系在(110)单晶硅基板上制作折线形的色谱沟槽,折线的长、短边夹角为70.53°,分别沿着基板的110和112晶向。该折线形色谱柱系采用各向异性湿法腐蚀法制备高深宽比的垂直深槽,然后经硅玻键合而成,从而使得整个折线形沟槽都具有高深宽比,并且在一个小的面积上实现足够长的柱长。在深宽比、柱长、面积等特征尺寸上,本发明所制备的折线形深槽与DRIE加工的垂直深槽相当,但所采用的湿法腐蚀加工方法简单易行,不需要采用昂贵的DRIE刻蚀设备,加工成本大大降

CN102183602A

110

112

70.53

CN102183602A权利要求书1/1页

2

1.一种高深宽比微型气相色谱柱,包括一个硅基板,一个玻璃顶盖,一个薄膜加热器和固定相薄膜;硅基板的正面刻蚀有蛇形深槽,背面制作有薄膜加热器;玻璃顶盖上刻蚀有进气口和出气口;固定相薄膜涂覆在深槽的内壁;其特征在于,所述硅基板为(110)单晶硅片,所述蛇形深槽的断面为矩形,蛇形深槽在硅基板平面上为折线形,其长边沿110晶向,短边沿112晶向,或长边沿112晶向,短边沿110晶向,长边与短边的夹角为70.53°。

2.根据权利要求1所述的高深宽比微型气相色谱柱,其特征在于,所述蛇形深槽的深度为200-800μm,宽度为30-150μm,深宽比大于5,蛇形深槽的长度为0.5-6m。

3.一种高深宽比微型气相色谱柱的湿法腐蚀制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

①掩模板制作:色谱柱沟槽设计为折线形,其长边与短边的夹角为70.53°;

②掩模层薄膜制备:采用PECVD在(110)单晶硅片上沉积Si?N4薄膜作为掩模;

③光刻:首先旋涂光刻胶,然后将掩模板的长、短边分别与单晶硅片的110和112晶向对准后,进行曝光、显影,将掩模板的图形转移到光刻胶上,随后刻蚀Si?N薄膜掩模层,最后去除光刻胶;

④深硅刻蚀:利用KOH或TMAH或EDP各向异性腐蚀液对硅片进行湿法腐蚀,制备深槽结构;

⑤硅玻键合:采用阳极键合将玻璃封盖在(110)单晶硅片的正面,玻璃顶盖上预先加工有进气口和出气口;

⑥加热器制备:在(110)单晶硅片的背面溅射制备Ti/Pt薄膜加热器;

⑦固定相薄膜涂覆。

CN102183602A说明书1/4页

3

一种高深宽比微型气相色谱柱及其湿法腐蚀制作方法

技术领域

[0001]本发明涉及气相色谱技术领域,具体涉及一种高深宽比微型气相色谱柱及其湿法腐蚀制作方法。

背景技术

[0002]气相色谱是一种分离和鉴别混合气体的技术,早在20世纪50年代就已发明,广泛用于制药、石油勘探、环境监测、物质净化和常规的有机化合物分析等领域。

[0003]气相色谱仪一般由进样器、分离柱、探测器组成,其关键部件是分离柱,它决定了色谱仪的分离效果。传统的色谱仪多采用石英毛细管作分离柱,在分离柱的内壁涂敷或填充有固定相。当混合物的各组分通过载气(移动相)穿过色谱柱时,其分离速率由固定相对各组分的保留能力所决定。由于被测混合物各组分在固定相中具有不同的分配系数,当两相作相对运动时,这些组分在两相间进行反复多次的分配,从而使不同组分得到分离。

[0004]传统的气相色谱仪虽然具有强大的混合物分离能力,但仪器体积大重量重,分离时间长,能耗较高。采用微加工技术能有效地实现色谱这种大型分析仪器的小型化,能加快色谱的分离速率,具有功耗低,便携

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