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堆叠硅片互联FPGA突破摩尔定律
作者 :陆楠 ,EDNChina
pin可用,I/O资源有限,时延过长并且功耗会增加,这
赛 些都限制了门电路的性能。 “堆叠硅片互联技术为FPGA
带来全新密度、带宽和节能优势,”汤立人说, “相对
于单片器件,单位功耗的芯片问带宽提升了100倍,容量
提升2倍~3倍。”
技术如何实现
赛灵思亚太区市场及应用总监张字清表示,堆叠硅
片互联技术在单个封装中集成了4个28nmT~岂的FPGA切
升级面临瓶颈 片 (图1),以实现突破性的容量、带宽和功耗优势 ,
目前FPGA工艺已经到达28nm节点,但市场对于更 其高密度晶体管和逻辑能够满足对处理能力和带宽性能
多的逻辑容量、高速串行收发器、内存等的需求依旧孜 要求极高的需求。该技术通过采用3D封装技术和硅通孔
孜不倦,摩尔定律的瓶颈 日益突出。赛灵思亚太区执行 (TSV)技术来突破摩尔定律的限制,利用堆叠硅片互联
总裁汤立人认为,如果沿着摩尔定律开发更大规模的 封装方法可以在现有工艺节点提供200万个逻辑单元。
FPGA,一是 良率会越来越低 ,二是平均要花2年左右 汤立人详细介绍了有关细节:在堆叠硅片互联结构
时间才能实现量产,这显然不符合市场需求的节奏。此 中,数据在一系列相邻的FPGA芯片上通过 1万多个过孔
外,如果要通过PCB或MCM上集成多个FPGA芯片来实 走线。相对于必须使用标准I/O连接在电路板上集成两个
现大型FPGA的功能 ,则 目前最大型~[J,FPGA只有1200个 FPGA而言,堆叠硅片互联技术将单位功耗芯片间连接带
宽提升了100倍,时延减至五分之一,而且不会占用任何
高速串行或并行I/O资源。在堆叠硅片互联技术中,无源
硅中介层由TSMC提供 ,它有四层导线层,是堆叠互联的
关键 (图2)。由于中介层无源,因此不存在散热问题,
它使得建立在该技术上的超大规模FPGA,~当f单芯片。
“由于较薄的硅中介层可有效减弱内部堆积的应
力,一般说来堆叠硅片互联技术封装架构的内部应力低
于同等尺寸的单个倒装BGA封装,这就降低了封装的最
大塑性应变,热机械性能也随之得以提升。”汤立人表
示, “通过芯片彼此相邻,并连接至球形栅格阵列,可
图1,堆叠硅片互联技术在单个封装中集成了4个28nmI艺的 以避免采用单纯的垂直硅片堆叠方法出现的热通量和设
FPGA切片。 计工具流问题。”
www.EDNChina.com
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