干涉吸收型膜系结构工作原理及性能研究.pdfVIP

干涉-吸收型膜系结构工作原理 及性能研究 湖北桑夏太阳能产业有限公司研发部 齐凤阳 邵志雄 赵峰 摘要：本文介绍了用磁控溅射技术，在玻璃基体上沉积干涉-吸收型太阳能选择性吸收膜系的工艺。通过台阶仪测量了各个膜层 的厚度。借助紫外可见分光光度计，研究不同工艺条件下，膜系的反射光谱与各个膜层厚度之间的关系以及膜系吸收比，发射比的变 化。实验得到：通过改变高金属体积比吸收层和低金属体积比吸收层的厚度，可以大大增强薄膜的干涉效应，使膜系具有最大的吸收比 和最小的发射比，集热效率大大提高。 关键词：磁控溅射；选择性吸收膜系 ； 吸收比；发射比 ∥乏三一?、‘ ∥乒≯一’、^． 蜥， 岱T婿2012年中l词太阳能热利用行业年会暨太阳能光热产业发展■十年纪念会 1．1 实验设备 采用■靶炉磁控溅射镀膜机，以超白低铁玻璃作 为基材，沉积金属一电介质太阳选择性吸收膜系，I：作 气体Ar和反应7乇体N2的纯度均为99．99％。在实验 中，红外高反射层，以及阻隔层的厚度保持不变，通过 调节氩气与氮气的比例，放电电压以及沉积时间来改 变吸收层和减反层的厚度。本文中给出的厚度值都是 ■■O ■- ¨ I_ l口 waveleng廿1‰) 测量各层薄膜不同位置的厚度的平均值。 图3不同高金属填充因子吸收层厚度条件下的膜系反 1．2 膜系性能表征方法 涉效应增强，反射也随之降低，吸收增加。当高吸收层 太薄时，干涉效应不足于弥补厚度减少造成的吸收损 失，曲线反射率也会增加。 图2三靶磁控溅射镀膜机原理示意图 膜系对太阳光谱的反射率曲线及吸收比是用日本 l口 5口 ■口 ，一 口口 岛津uv一3600uv—vis分光光度计来测量的，膜层厚度 高金属埴充因子吸收层厚度(一) 是通过英国泰勒霍普森公司生产的型号为FrS—S3C的 图4不同高金属填充因子吸收层厚度条件下的膜系吸 台阶仪测量的。膜层结构是用型号为Jf=M一1011的透 由图4可以看到，随着高金属填充因子吸收层厚 射电子显微镜来测量的，膜系发射率是用NEM80型发 度增加，膜系吸收率先增加后减小，这是因为膜厚刚开 射仪来测量的。 始增加时，薄膜吸收作用增大，吸收率增加，当厚度太 大时，干涉效应逐渐变弱，吸收率随之降低。发射率随 2结果与讨论 着厚度的增加而增大，当高吸收层厚度为40nm，60nm 2．1 紫外一可见一近红外光谱测量与分析。 时，膜系发射率只有O．03左右，膜系具有比较高的吸收 膜系反射率主要受减反层，吸收层的影响，在研究 率和较低的发射率，是由于干涉效应和膜系吸收作用 膜系反射率曲线时，红外高反射层以及阻隔层的厚度 达到了～个最佳的工艺点，即在膜系厚度较薄的条件 是不变的。 下，达到了对太阳能光谱的最大吸收。 图3显示了在其它条件不变的情况下，改变高金 聃 属填充因子吸收层的厚度条件下，测量的膜系反射率 秘