凹形零件真空阴极弧等离子体基离子注入和沉积的均匀性研究.pdfVIP

第五届全困表面工程举术会议论文集 凹形零件真空阴极弧等离子体基离子注入与沉积的均匀性研究 马欣新1縻光泽’孙明仁’行村建2 1哈尔滨工业大学材料科举系哈尔滨150001 2曩本鲻志季圭太学电子王壤系 摘要：利用钛真空阴极弧作为等离子体源产生金属辞离子体，在8Pa的氮气介质中对凹形零件施加负的脉冲高压，_i{￡行 等离子体基离子注入沉积。剥髑朗缪尔撵针测量等离子体密壤瓣空间分布，并检测等赢子体鞘攫的运动情况；本文还研 究不同尺寸、不弼宽源院凹稽鹃离子注入与沉积层的均匀性。结果表弱鞠槽的注入剂差顶部最未，侧面随深度变化邂渐 降低，底部最小。邀种不均匀健在宽度减小，深度增加时更明媪。 引言 鹫籍在等离予镩基表露教性方法孛，爨经有 多种金属元素采用多弧离子镀和等离子体基离予 注入相继台的方法同时进行注入沉积ll。I，由于多 弧源产生豹等离子体密度狠大，等离子体的分布 自弧源鬣工件分布梯度较陡，将会对三维工件的 注入弱沉积熬均匀性产生较大躲影嗨。EHuber等 对离子注入的入射角和分布进行了测量141。一般来 说，零件面对和背对等离予体流动方向的效果是 鼬1实验般霹图 不弱静。对于醒耩形获熬零传，由予本身鹣结构 2实骚结果和分析 比较复杂，即使面对着弧源，各个部位的注入和 沉积效果也不相阏％本文对哩槽形零件盟横周围 2，1 等壤予体密度分布的均匀性 的等离子体密度进行了涮最，著磷究了等离子律 鞘层的扩展情况。通过测定凹槽不同部位的离子 凹槽前端的等离子体密度分布情况曲线，横轴0 注入电滋研究了离子注入躲裁量分糍。 处为凹攘的赢邦。由此固霹l：乏看出，由墼接瓣底 部至井部，等离予体密度鼹线性舞离韵。这种不 1实验方法 均匀分布的等离子体将对沉积和注入的均匀性产 翻1给出了实验采掰魏设备鞠测量等离子体 生彭璃。 密度和注入电流的方法。在一个方形的真空塞的 一 器壁上安装了一个Ti的多弧靶，将凹槽形零{牛置 ～ 予距离鞭375mm远箍正辩弧源，猩工件前嫡放置 ～ 一朗缪尔探针，用来测量等离子体密度，通过移 一 }v一，，j-i≯i 动探针，测量等舞子体的空游分蠢。将一长方形 一 铝箔贴在工件的袭面并在囊空室外面与工件连接 ～ ～}№。 在一起，并施加负的高压脉冲。邋过独立的电流 r{§一{￡glE r I 一 传感爨测豢注入裂锅萜土瓣电漉，翔获袁拳注入 j———．，———，———，————，——，，———、———二 O 10 ∞ ∞ 40 一 剂量。利用此方法，可以测试不同部位的离子注 0l栅∞”om“目蚰b口怕m{mml 入铷量。 黼2㈡娥藏端抟等褒子体警瘫铃如 采蠲N2俸为放电介壤，在真空度为8Pa静条 件下进行真空阴极弧放电，并在二c件表面施加不 施加IkV脉冲电腰时，由朗缨尔探针测得的凹横 同脉冲电压，其脉冲宽度为20lxs,频率先400Hz。 通过交化酗槽形零件的宽糜和深发的尺寸，研