高效快速镀铬工艺的研究.pdfVIP

第12卷第6期 腐蚀科学与防护技术 V01．12No6 2000年11月 Nov2000 CORRoSIoNSClENCEANDPRoT唧IONTECHNOLoGY 高效快速镀铬工艺的研究 关 山 张琦 胡如南 (北京航空航天大学材料科学与工程系北京10∞83) 捆要开旋了一种新型镀铬工艺在45A／dm2的电流密度下，阴极电流敬率达26％新型复合型镀铬添加剂的 加A，提高了阴极电流效率及镀蒗的覆盖能力，改善_『镀层的性能．并在较宽的电流密度范围内可获得光亮的镀 屡． 关键词镀铬电流效率添加剂 中囝分类号TQl53文献标识码A 文章编号 1002—6495(2000)06一036l03 CHRoMIUMELECTRoDEPoSITIoNPRoCESS WITHHlGH CATHoDECURRENTEFFIClENCY GUANShan，ZHANGQi，HURu’nan (啦阳r￡附nf 100083) 0，M8l砒如＆锄婵口nd幽一H竹i昭，＆巧i曙mi螂岫0，A啪n口“￡b＆山￡r。n。￡虻s，B耐i”g 111e A粥TRAcTnewchromium with cathode was electrodepositionprocesshigh effIcien。ydeveloped whichthecathode canbemorethan the successfully，with efficiency 26％(45A／drn2)，Theadditionof newchromium additivescanincreasethecathode the electrodeposition efncrency，improvecovedng ofthesolutionaSwellasthe the abnity quality。fdepositions KEYWoRDS chrom；um electrodepositi。n，currentefficiency，additive 为了提高镀铬的效率，国内外曾先后开发了一 入，例如氨基酸，卤代羧酸，卤代磷酸，有机磺酸等， 批有价值的工艺，其中比较成功的是含氟工艺，例如 不但明显的提高了阴极电流效率，还使镀层的外观、 sRHs(自调节工艺)．通过向普通镀液中引入氟化物镀液的覆盖能力、分散能力有了‘定的改善【4“] 作为第二催化剂．使电流效率提高到20％～ 一般将此类镀铬液称为第三代镀渡，其中以美国 25％…。但此种镀液对工件的低电流密度区和阳极 M＆T公司的脏FF25工艺最为著名，采用该工艺 腐蚀严重，限制了此类工艺的应用，目前比较先进的 可以在25％以上的阴极电流效率下获得光亮且结 镀硬铬工艺均不含氟 合力较好的镀层，但该工艺成本过高。可能会影响其 M．Perakh【21提出在高浓度的铬酐中加入除氟推广使用． 以外的其他卤化物，可以使阴极电流效率达40％～ 北京航空航天大学开发了一种高效快速的镀铬 70％．但此工艺要求低温，否则镀层光亮度差，加上 工艺，采用了复合型镀铬添加剂(有机物+无机阴离