调制比对TiNTi多层膜结构和力学性能的影响.pdfVIP

第 13卷第4期 材 料 与 冶 金 学 报 VoLl3No．4 2014年 12月 JournalofMaterialsandMetallurgy Dec．2014 调制比对 TiN／Ti多层膜结构和力学性能的影响 肖 娜 ，杜菲菲 ，杨 波 (1．东北大学 材料电磁过程研究教育部重点实验室，沈阳 110819； 2．东北大学 材料各向异性与织构教育部重点实验室，沈阳 110819) 摘 要：采用反应磁控溅射的方法在 Ti6A14V基板上沉积 (TiN／Ti)n多层膜，交替沉积Ti层和TiN层，以通 人／关闭氮气实现对TiN含量的控制．共溅射 10层，每层 TiN膜和Ti膜的厚度之和即调制周期不变，二者之间 的厚度比即调制比分别为 1：9、1：5、1：3和 1：2．利用XRD、SEM分别研究了薄膜的微观结构和表面形貌 ，利用显 微硬度仪和划痕仪测量了薄膜的硬度和膜基结合力．研究结果表明：随着调制比的增大，TIN(200)逐渐消失， 出现 Ti：N等新相；硬度、结合力有明显增大的趋势，与单层膜相 比，多层膜的硬度和结合力最多分别增加 250HV 和 22N． 关键词：反应磁控溅射；TiN／Ti；调制比；结合力 中图分类号：0484．2 文献标识码 ：A 文章编号：1671-6620(2014)04-0276-04 Effect0fmodulationratioonstructureandmechanical propertiesofTiN／Timultilayerfilms XiaoNa ，DuFeifei，YangBo (1．KeyLaboratoryofElectromagneticProcessingofMaterials，MinistryofEducation，NortheasternUniversity，Shenyang110819，China 2．KeyLabomtoryforAnisotropyandTextureofMaterials，MinistryofEducation，Northeastern Universiyt，Shenyang110819，Chin~．) Abstract：(TiN／Ti)nmultilayerflhTIsweredepositedonTi6A14Vsubstratethroughreactivemagnetronsputtering method．byusingAr—N2mixturegas．TiN contentwascontrolledbyN2flow ．W iththesamemodulationperiodfor allsamples，themodulationratioswerechangedfrom 1：9，1：5，1：3to1：2．Crystal structures，surfacemorphology andcross—sectionalmicrostructurewereinvestigatedbyx—raydiffraction(xRD)andscanningelectronmicroscopy (SEM )．MicrohardnessofTiN film wasmeasuredbymicrohardnesstester．Adhesivestrengthbetweenfilmsand substratewasdetermined by scratch testapparatus． The main resultsare asfollows：with the modulation ratio increment，TiN (200)disappearsgraduallyandTi2Nphaseappea~．HardnessandadhesionoftheTiN，／Timultilayer 61msincreasewichthemodulationratiochanged丘om 1：9to1：2．Comparedwi