《全自动光刻版清洗机介绍.》.pdfVIP

新渡尜 新 C清洗世界 第30卷第2期 leaningW orld 2014年2月 文章编号：1671—8909(2014)2—0037—05 全 自动光刻版清洗机介绍 宋文超 (中国电子科技集团公司第四十五研究所，北京 101601) 摘 要：介绍了中国电子科技集团公司第四十五研究所研制的全 自动光刻版清洗机的工艺原理 和工作过程。该设备 自用户投入使用以来，大量的产品证明，采用全 自动光刻版清洗机对光刻 版进行清洗，光刻版洁净度高，工艺效果理想，工艺参数稳定，自动化程度高，批量处理能力强， 可以广泛用于工业生产 中。 关键词：半导体；光刻版清洗；单晶圆清洗；自动设备 中图分类号：TN405 文献标识码：A Introductiontotheautomaticphotomask cleaningequipment soNG Wenchao (The45 ResearchInstituteofCETC，Beijing101601，China) Abstract：Photomaskcleaningprocessesareintroduced，andtheoperatingoftheAutomaticPhotomask CleaningEquipmentdesignedby the45 Reserach InstituteofCETC ispresent．The experiments provedthattheAutomaticPhotomaskCleaningEquipmentiseffective，andcanbewidelyusedinthe cleaningofthephotomask． Keywords：semiconductor；photomaskcleaning；singlewaferclean；automaticequipment 光刻是制造半导体器件和集成电路微图形结构 为了保证光刻版洁净，必须定期对光刻版进行清洗 ， 的关键工艺，其工艺质量直接影响着器件成品率、可 而清洗的效果与清洗工艺以及各清洗工艺在设备上 靠性、器件性能以及使用寿命等参数指标。光罩是 的合理配置有着密切的联系。 光刻工艺中的一个重要环节，光刻版必须非常洁净， 中国电子科技集团公司第四十五研究所是国 所有硅片上的电路元件都来 自版图。如果光刻版不 内从事 电子专用设备技术、整机系统和应用工艺 洁净，存在污染颗粒 ，这些颗粒就会被复制到硅片表 研究开发与生产制造的专业化科研生产单位。本 面的光刻胶上，造成器件性能的下降。然而，光刻版 文对四十五所研制的全 自动光刻版清洗机进行 了 在使用过程中不可避免的会粘上灰尘、光刻胶等污 介绍 ，主要包括清洗的工艺原理和清洗 的工作 染物，这些污染物的存在直接影响到光刻的效果。 过程 。 收稿 日期：2013—12—10 作者简介：宋文超 (1980一)，男，工程师，毕业于西安电子科技大学机械电子工程专业，目前主要从事半导体湿法设备的研 制和晶圆传输机械手的应用研究工作。