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第 24卷第4期 强 激 光 与 粒 子 束 Vo1.24,No.4
2012年 4月 HIGH POW ER LASER AND PARTICLE BEAMS Apr.,2012
文章编号: 1001—4322(2012)04—0855—04
纵磁结构真空灭弧室电磁场及 电弧运动特性
徐 蓉 , 王 珏 , 赵 莹 , 严 萍 。
(1.中国科学院 电工研究所,北京 100190; 2.中国科学院 电力电子与电气驱动重点实验室,北京 100190)
摘 要 : 为了了解纵向磁场下的电弧运动过程 ,建立了真空灭弧室的3维仿真模型。采用 PIC模拟方法
对 12kV灭弧室内的电磁场、电弧运动特性进行计算仿真。通过改变触头间距、屏蔽罩尺寸和触头开槽宽度 ,
研究了灭弧室 内的电场 、磁场分布 ;对不 同触头间距下随时间变化的电弧运动过程和触头表面的电弧分布情况
进行了模拟计算。计算结果表明:在真空灭弧室中适当设置屏蔽罩,可有效改善灭弧室内的电场分布;触头铜
基上的开槽宽度对磁场会产生影响,宽度越大,磁场强度越大。
关键词 : 真空灭弧室; 纵磁触头 ; PIC模拟 ; 电弧运动特性
中图分类号 : TL50 文献标志码 : A doi:10.3788/HPLP0855
真空灭弧室的小型化是灭弧室设计 中备受关注的问题 ,国内外研究者在这方面做了大量研究工作,主要的
研究方 向是采用各种触头结构和寻求新 的触头材料_1]。其 中纵向磁场触头结构开断能力 比较强,在额定短路
开断电流、设计裕度和工艺水平相同的情况下,纵 向磁场的电极 比横 向磁场 的电极小得多。因此 ,采用纵向磁
场触头结构的真空灭弧室能够缩小整体尺寸_3]。为了研究具有断路器和接触器复合功能的高压真空开关 ,可
以采用杯状纵磁结构 ,它具有短路电流开断能力强、机械加工相对简单的特点_4]。电弧在真空灭弧室中的运动
是气流场、电场 、磁场和热场相互耦合作用的过程 ;适当引入纵向磁场对 降低电弧电压有较好 的效果[5]。本文
采用 PIC模拟[~-73,对不同结构参数下的电磁场和电弧特性进行 了仿真分析。
1 纵 向磁场结构的真空灭弧室工作机理
纵 向磁场触头结构是 2O世纪 7O年代发展起来的一种触头结构 ,它的特点是触头间磁场与主回路 电流方
向平行 。典型的纵向磁场触头结构有线圈式(分为单极和多极)纵磁 、杯状纵磁 、马蹄形纵磁等[8]。杯状纵向磁
场触头杯壁上开着斜槽 ,动、静触头上的斜槽倾斜方向相同。当电弧电流流过杯壁斜槽之间时,产生很大的圆
周电流分量 。由于动、静触头上的圆周电流分量相同,这一 电流就像螺旋管线圈中的电流一样,在触头间产生
纵向磁场 。
真空电弧中,带电粒子 由阴极向阳极运动,同时产生磁场 。该磁场方 向平行于触头间隙的圆周方向,带 电
粒子在该磁场的作用下将产生向内的运动,导致 电弧收缩并趋于集聚。当外加纵向磁场 B时,带电粒子在该
磁场的作用下进行螺旋运动,由于洛伦兹力 F—qB×’’,螺旋运动的半径R由B、粒子质量 m、带电粒子 的速度
,决定 。当带电粒子作螺旋运动时将产生离心力 f= ,
^
离心力的方向与磁场收缩力 的方 向相反 ,减小 了磁场收缩 的压
力 ,抑制了电弧的集 聚。另外带电粒子在磁场 中受磁力的作用 ,
被束缚在一定 的空间,不易向周 围空间扩散 ,进一步抑制 了阳极
斑点的产生 。
2 真空灭弧室电磁场仿真
2.1 杯状纵磁结构灭弧室模型
真空灭弧室由动、静触头,导 电杆,屏蔽罩等构成,动触头端
Fig.1 Modelofvacuum interrupterwith
利用波纹管连接可移动,整体结构如图 1所示。在该模型中,真 longitudinalmagneticfieldcontacts
空灭弧室总长度 355mm,触头片直径 45mm,厚度 2mm,触头 图 1 纵磁结构
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