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gan hfet中的噪声 noise in gan hfet
第2期 中目鼋;鲜警研宪F雯罾摹l V01.4No.2
ofCAEIT
2009年4月 Journal Apr.2009
GaN
HFET中的噪声
薛舫时
(南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室,南京210016)
摘要:从GaN异质结沟道阱中电子状态出发研究了HFET中的噪声产生机理。用沟道阱中子带
间散射解释了迁移率起伏引起的1/f噪声。从电子状态转移及不同状态间的跃迁出发解释了各类
噪声实验结果。建立了沟道阱能带与HFET噪声性能问的关联。运用正、负极化电荷剪裁了肖特
基势垒、欧姆接触及内、外沟道的势垒和主阱及副阱阱宽和势垒高度,降低了栅流、欧姆接触和外沟
道串联电阻,强化了沟道阱的量子限制,减弱了子带间散射。
关键词:1/f噪声;能带剪裁;负极化电荷;复合势垒;耦合沟道阱
中图分类号:TN386文献标识码:A 文章编号:1673-5692(2009)02—125-07
in
NoiseGaNHFET
XUE
Fang—shi
ofMonolithic Circuitsand ElectronicDevices
(NationalLaboratory Integrated Modules,Nanjing Institute,
Key
Nanjing210016,China)
noisemechanisminGaNHFETsiS fromtheelectronstatesinGaNhetero—
Abstract:The investigated
structure well.Thenoiseinducedthe fluctuationis the
quantum 1/f by mobility explainedby scattering
betweendifferent variousnoise inGaNHFETsale theelectron
subbands,while phenomena explainedby
statetransformsandtransitionsbetween whichthecorrelationbetweenbandsin
subbands,through energy
channelwellandthenoiseinGaNHFETsis the and
using
established.Bypositivenegativepolarization
barriersforinner widthsandbarrier
charges,the channel,outerchannel,Ohmiccontacts,well heights
forhost wellaletailoredtoenhancethe confinementofchannel
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