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gan hfet中的噪声 noise in gan hfet

第2期 中目鼋;鲜警研宪F雯罾摹l V01.4No.2 ofCAEIT 2009年4月 Journal Apr.2009 GaN HFET中的噪声 薛舫时 (南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室,南京210016) 摘要:从GaN异质结沟道阱中电子状态出发研究了HFET中的噪声产生机理。用沟道阱中子带 间散射解释了迁移率起伏引起的1/f噪声。从电子状态转移及不同状态间的跃迁出发解释了各类 噪声实验结果。建立了沟道阱能带与HFET噪声性能问的关联。运用正、负极化电荷剪裁了肖特 基势垒、欧姆接触及内、外沟道的势垒和主阱及副阱阱宽和势垒高度,降低了栅流、欧姆接触和外沟 道串联电阻,强化了沟道阱的量子限制,减弱了子带间散射。 关键词:1/f噪声;能带剪裁;负极化电荷;复合势垒;耦合沟道阱 中图分类号:TN386文献标识码:A 文章编号:1673-5692(2009)02—125-07 in NoiseGaNHFET XUE Fang—shi ofMonolithic Circuitsand ElectronicDevices (NationalLaboratory Integrated Modules,Nanjing Institute, Key Nanjing210016,China) noisemechanisminGaNHFETsiS fromtheelectronstatesinGaNhetero— Abstract:The investigated structure well.Thenoiseinducedthe fluctuationis the quantum 1/f by mobility explainedby scattering betweendifferent variousnoise inGaNHFETsale theelectron subbands,while phenomena explainedby statetransformsandtransitionsbetween whichthecorrelationbetweenbandsin subbands,through energy channelwellandthenoiseinGaNHFETsis the and using established.Bypositivenegativepolarization barriersforinner widthsandbarrier charges,the channel,outerchannel,Ohmiccontacts,well heights forhost wellaletailoredtoenhancethe confinementofchannel

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