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NicSys 2000控制系统在变压吸附装置中应用 　　【摘要】变压吸附（PSA）技术是利用不同气体组份不同的吸附和解吸特性，在压力周期性变化过程中实现分离的技术。本文基于NicSys 2000控制系统提出了一种面向对象的变压吸附（PSA）装置解决方案。 　　【关键词】变压吸附，面向对象，NicSys 2000 　　变压吸附（Pressure Swing Adsorption，PSA）分离技术是一种低能耗的气体分离技术。变压吸附工艺所要求的压力一般在0.1～2.5MPa，允许压力变化范围较宽，一些有压力的气源，如氨厂弛放气、变换气等，本身的压力可满足变压吸附（PSA）工艺的要求，可省去再次加压的能耗。变压吸附（PSA）分离技术目前主要应用于以下领域：提纯氢气（H2）、提纯一氧化碳（CO）、变换气脱除二氧化碳（CO2）、）回收二氧化碳（CO2）、空气分离制氧（O2）、）空气分离制氮（N2）、）回收乙烯（C2H4）、聚丙烯尾气回收丙烯（C3H6）、天然气回收轻烃、回收聚氯乙烯尾气。 　　1.变压吸附工艺过程 　　变压吸附循环是吸附和再生的循环，吸附过程是吸附剂在加压时吸附混合气中的某些组份，未被吸附组份通过吸附器层流出，当吸附剂被强吸附组分饱和以后，吸附塔需要进入再生过程，也就是解吸或脱附过程。 　　工艺过程中吸附器的压力变化如图所示。 　　真空解吸： 　　升压过程（A-B）： 经真空解吸再生后的吸附器处于过程的最低压力P0、床内杂质吸留量为Q1（A点）. 在此条件下用产品组分升压到吸附压力P3，床内杂质吸留量Q 1不变（B点）。 　　吸附过程（B-C）： 在恒定的吸附压力下原料气不断进入吸附器，同时输出产品组分. 吸附器内杂质组分的吸留量逐步增加，当到达规定的吸留量Q3时（C点）停止进入原料气，吸附终止. 此时吸附器内仍预留有一部分未吸附杂质的吸附剂（如吸附剂全部被吸附杂质，吸留量可为Q4，C’点）。 　　顺放过程（C-D）： 沿着进入原料气输出产品的方向降低压力，流出的气体仍为产品组分，用于别的吸附器升压或冲洗. 在此过程中，随床内压力不断下降，吸附剂上的杂质被不断解吸，解吸的杂质又继续被未充分吸附杂质的吸附剂吸附，因此杂质并未离开吸附器，床内杂质吸留量Q3不变. 当吸附器降压到D点时，床内吸附剂全部被杂质占用，压力为P2。 　　逆放过程（D-E）： 开始逆着进入原料气输出产品的方向降低压力，直到变压吸附过程的最低压力P1（通常接近大气压力），床内大部分吸留的杂质随气流排出器外，床内杂质吸留量为Q2。 　　抽空过程（E-A）： 根据实验测定的吸附等温线，在压力P1下吸附器仍有一部分杂质吸留量，为使这部分杂质尽可能解吸，要求床内压力进一步降低. 在此利用真空泵抽吸的方法降低杂质分压使杂质解吸并随抽空气带出吸附器.抽吸一定时间后，床内压力为P0，杂质吸留量降低到过程的最低量Q1时，再生终止。至此，吸附器完成了一个吸附―解吸再生过程，再次升压进行下一个循环。 　　2.NicSys 2000的数字化控制技术介绍 　　NicSys2000系统是中核控制系统工程有限公司融合最新的大规模组网技术、现场总线技术和现场管理技术，开发完成的主要应用于核电站非安全级控制系统。系统应用冗余的供电系统、冗余的通信网络、冗余的控制站和冗余的现场总线来保证系统的连续正常运行。NicSys2000系统由控制节点（控制站及配套设备）、操作节点（工程师站、操作员站、服务器站）以及系统网络（包括操作网O-Net，控制网C-Net以及现场总线Nic-Bus）等构成。 　　NicSys2000紧密跟随最新技术的发展。采用Windows 系列操作系统，并可集成Windows 平台丰富的功能软件。用户在不同层次上可以通过Excel软件、VBA语言、OPC数据交互协议、TCP/IP 网络协议等开放接口与DCS 进行信息交互。NicSys2000人机交互界面（HMI）与Windows 操作界面相同，也可以使用专用键盘或触屏功能进行操作，用户非常容易掌握系统操作。 　　NicSys2000系统控制器模块和I/O模块采用机笼式结构，保证了安装和维护过程的安全性和简易型。所有I/O模块支持热插拔，支持即插即用。输出模块具备故障安全功能，在系统网络故障情况下，模拟信号输入模块和模拟信号输出模块每一通道均具有独立的电源和隔离电路。模拟信号输入模块为现场变送器提供可选的24V 电源。数字信号输入模块具备时间可设置的防抖动处理功能，支持分辨率达到1ms 的事件顺序记录（SOE）功能，支持低频脉冲计数功能。数字信号输出模块具备单触发脉宽输出功能。I/O模块隔离方式分为通道隔离和组隔离。 　　3.变压吸附控制方案 　　基于NicSys2000系统开发了面向