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分散剂对微米-al 1 分散稳定性对研磨颗粒的影响 目前，化学机械抛光技术（cmp）是唯一的全球平面化技术，广泛应用于先进电子产品的制造，如计算机硬盘、电路硅晶体、光学玻璃等。抛光液是CMP的关键要素之一,其分散稳定性能对其储存运输及抛光后材料的表面质量等有重要影响,而这与研磨颗粒在不同条件溶液体系中的表面性质密切相关。α-Al2O3抛光液是常用的CMP抛光液,超细α-Al2O3粉体在液相介质中的分散属于典型的多相体系,具有较大的界面能,是引起悬浮液热力学不稳定的主要原因;另外,固体颗粒的密度通常大于基液的密度,重力场引起悬浮液的动力学不稳定, 这些不稳定的因素最终将导致悬浮液中的颗粒团聚而沉降。因此要制备稳定的抛光液, 必须采取适当的措施以降低颗粒间的团聚力。 本文主要采用高能球磨与化学分散剂分散相结合的方法,研究球磨工艺参数及分散剂种类对微米α-Al2O3粉体分散性能的影响,探讨配制稳定的微米α-Al2O3抛光液的最佳工艺条件,为开发性能优良的Al2O3抛光液提供理论指导。 2 实验 2.1 实验用仪器及设备 实验采用上海某公司提供的α-Al2O3粉体,平均粒径为2μm,纯度99.99%。分散剂采用六偏磷酸钠(SHP)、油酸(OA)、十六烷基三甲基氯化铵(CTAC)以及异丙醇胺(DIPA),均为市售,分析纯。选用乙二胺、稀盐酸作为pH值调节剂。使用去离子水作为分散介质,配置溶液固含量为5%。 实验采用的仪器设备主要有:QM-3SP2行星球磨机(南大仪器厂),单个球磨罐体积为500mL,为避免在球磨过程中磨球对粉体的污染,采用Al2O3材质的磨球,直径为?6mm; BS224S型分析天平(德国Sartorius),称量范围为0~220g,最小分辨率为0.1mg;DGG-9023AD型电热恒温鼓风干燥箱(上海森信实验设备有限公司); JL9200便携式激光粒度仪。 2.2 分散剂分散稳定性 使用分析天平分别称取10g微米级α-Al2O3与2g分散剂,置入4个已含有200mL去离子水的球磨罐中,调节pH值至10.5。采用单因素进行实验设计,主要研究球磨时间对采用不同分散剂的氧化铝悬浊液分散性的影响。实验水平安排如表1所示。磨球与α-Al2O3质量比定为10∶1,球磨转速为300r/min。 球磨结束后,将球磨所得分散剂倒入试管中,静置24h后,进行分散稳定性评价。分散剂的分散稳定性有多种评价指标,主要包括zeta电位测定、吸光度测试、粒度分析、毛细管吸入时间分析、沉降性测试等。本文拟采用“悬浮率”表征分散剂的分散稳定性。静置后抛光液实物图如图1所示,可以看到,该抛光液呈现两种状态,底部的沉淀物以及仍处于分散状态的悬浊液。使用滴管吸取上层悬浊液体积V,烘干后质量为M,若α-Al2O3完全分散于去离子水中,则烘干后的理想质量为M0,M0为理想状态的α-Al2O3质量Mp与分散剂的质量MD的和,因此悬浮率公式如下: η=MM0=MMP+MD(1)η=ΜΜ0=ΜΜΡ+ΜD(1) 显然,由式(1)可得,悬浮率越高,说明分散的稳定性越好。本文所取的体积V为5mL,M的具体计算过程为:将取出的5mL悬浊液置入已恒质量的蒸发皿中,置于干燥箱中在(103±2)℃下干燥,冷却至室温后称量,重复以上过程,直至质量不再变化,即可得到质量M。 3 结果与讨论 3.1 偏磷酸钠ae对米-al2o3分散稳定性的影响 图2所示为未进行球磨时,采用不同的表面活性剂在含量(质量分数1%)相同情况下抛光液静置24h的沉降率。可以看出,分散剂之间的分散效果存在差异,对于微米α-Al2O3的水相分散而言,其强弱顺序为SHPCTACOADIPA。 SHP是一种无机电解质类分散剂。SHP在水中并不是以普通的偏磷酸根存在于水中,而是以玻璃态长链状聚合物形式存在,其分子式如图3所示。Al2O3在水中电离成Al3+离子,借助六偏磷酸根的氧提供的孤对电子形成较为稳定的亲水络合物。因此,六偏磷酸钠在微米α-Al2O3颗粒表面发生吸附,从而使微米α-Al2O3颗粒表面电位发生变化,增大了颗粒表面的静电排斥作用,因此能够提高微米α-Al2O3悬浊液的稳定性。 OA和CTAC均为离子型表面活性剂,但是其起作用的基团不同。OA作为表面活性剂主要起作用的是分子中的烯型双键,烯型双键会引起空间结构的弯曲,具有很强的空间位阻作用;同时OA中的极性基团带负电,可以有效地增加α-Al2O3的表面电荷,增加静电斥力。CTAC为阳离子型表面活性剂,其分子结构为CH3(CH2)15—N+(CH3)3Cl-。它的长碳氢链结构对微米α-Al2O3进行吸附,改变了微米α-Al2O3颗粒表面电荷的分布,从而可以增加微米α-Al2O3分散的稳定性。 DIPA不带电荷,为非离子型表面活性剂。因为DIPA包含的极性基团