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精密光学元件表面中频误差的提取研究
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林建兴,高诚辉,b,任志英,b
(福州大学 a. 机械工程及自动化学院,b. 摩擦学研究所,福建 福州 350002)
精密光学元件表面中频误差的提取研究
林建兴a,高诚辉a,b,任志英a,b
(福州大学 a. 机械工程及自动化学院,b. 摩擦学研究所,福建 福州 350002)
能否准确对精密光学元件表面评价势必影响着光学元件研制与生产,其中中频误差的提取逐渐显得重要。提出了利用双树复小波变换(DT-CWT)对精密光学元件表面提取信号进行多尺度分解,以定义的均方根波长确定其双树复小波分解次数,进行中频误差的提取与识别。此方法应用于精磨和镀膜的精密光学元件表面中,实验证实该方法不仅可以应用于一维信号的提取,同样也适合三维表面中频波段面形误差的提取。
双树复小波;精密光学元件表面;中频误差;提取
0 引言
随着光学技术的发展,光学元件在紫外线和X射线光学、超高反射率光学以及半导体工业中有着越来越广泛的应用[1]。由于需求量与应用领域的扩大,对光学元件表面品质和性能的要求更高,制造光学元件的面形误差(包括光学材料的不均匀性造成的误差和在光学加工过程的残余误差)对光束的调制作用会严重影响光束品质[2]。
传统评价光学元件表面的面形精度主要用PV值、均方根以及粗糙度等简单的统计参数来描述,但这些参数仅仅只包含光学元件表面的高频波段和低频波段的面形误差,对于中频波段的面形误差却没有做出相应的评价。然而中频波段的面形误差对光学性能产生很大影响,高志山[3]研究了中频波段波面误差对光学系统象质的影响,得出了中频波段波面误差引起光能小角散射,严重降低光学系统成象分辨率的结论。特别是在高功率激光装置中,中频误差的位相扰动随着波面的传输,会使激光束强度分布出现调制,导致光束的非线性增益,最后将严重影响激光束的聚焦,因此中频波段面形的评价可以完善表面品质的评价体系,对光学元件的研发与生产具有重要的意义。正确评价中频波段面形误差的首要条件是能否真实提取中频面形误差,徐建程等[4]尝试利用Wigner分布函数评价光学元件中频误差,识别局部小尺度波前畸变的空间频率和空间位置,能够有效指导光学元件返修,但局部小尺度并不能完全表征整个光学元件表面中频段误差。郭隐彪等[5]基于经验模态分解有效识别中频误差特征及其方位,但采用经验模态分解时对于采集信号的要求相对较高。
1998年,受到傅里叶变换的启发,Kingsbury[6]首次提出双树复小波变换(DT-CWT)。其滤波器应该要满足有限支撑、完全重构条件即正交或者双正交、近似的半帧移以及对称性等四个条件。双树复小波变换具有良好的局部化的分析能力以及良好的方向检索性能,已在图像去噪、图像纹理提取和图像加强等方面成功的应用[7-9]。由此说明双树复小波可以对复杂的信号进行特征信号分解以及提取。文中提出利用DT-CWT进行多尺度分解,并首次运用均方根波长确定双树复小波分解次数后,最后进行中频误差的提取与识别。将此方法应用于精磨和镀膜的精密光学元件表面中,证实该方法不仅仅可以应用于一维信号的提取,同样也适合三维表面中频波段面形误差的提取。
1 DT-CWT分离光学元件表面中频误差的建模
1.1 中频误差分离数学建模
目前光学元件的面形误差信号由低频分量扰动的面形误差信号,中频分量波纹度面形误差信号以及高频分量粗糙度的面形误差信号构成。所以采集光学元件表面面形误差信号f(xi)可建立以下数学模型:
f(xi)=s(xi)+z(xi)+r(xi)
(1)
式中:s(xi)为低频分量面形误差信号,z(xi)为中频分量面形误差信号,r(xi)为高频分量面形误差信号。
采用传统一维的光学元件表面轮廓信号进行参数评定时,评定参数中均方根波长考虑了区域内所有单峰和单谷的相对幅度和各自空间频率的间距量度,是横向间距特性参数,其基本公式为:
(2)
式中:Sq为长度均方根偏差,Sdq为长度均方根斜率值,其Sq和Sdq离散的公式如下:
(3)
(4)
从式(4)可知,Sdq长度均方根斜率值与波前梯度均方根(GRMS)相对等,然而波前梯度均方根是衡量波前低频相位畸变的重要标准,目前张颖等[10]推导出波前梯度均方根与焦斑尺寸存在定量的关系,间接反映均方根波长与光学特性密切相连。因此参考美国劳伦斯·利弗莫尔实验室在研制NIF过程中对空间波长的划分[11-12]对均方根波长进行面形误差的分组如表1。
表1 均方根波长面形误差分组
1.2 双树复小波分解基本过程
对于任何采集光学元件表面信号f(xi),对其进行双树复小波变换中高频面形误差的提取基本流程如图1,具体步骤如下:
1) 将原始表面信号f(xi)进行双树复小波的n层分解,得到最底层的低频系数dn(xi)以及各层的高频系数cj(x
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