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PN结的单向导电性(3)PN结V-I特性表达式其中PN结的伏安特性IS——反向饱和电流VT——温度的电压当量且在常温下(T=300K)第27页,共45页。PN结的反向击穿当PN结的反向电压增加到一定数值时,反向电流突然快速增加,此现象称为PN结的反向击穿。热击穿——不可逆雪崩击穿齐纳击穿电击穿——可逆第28页,共45页。2.3半导体二极管半导体二极管的结构二极管的伏安特性二极管的参数第29页,共45页。半导体二极管的结构在PN结上加上引线和封装,就成为一个二极管。二极管按结构分有点接触型、面接触型和平面型三大类。(1)点接触型二极管PN结面积小,结电容小,用于检波和变频等高频电路。(a)点接触型二极管的结构示意图第30页,共45页。(3)平面型二极管往往用于集成电路制造艺中。PN结面积可大可小,用于高频整流和开关电路中。(2)面接触型二极管PN结面积大,用于工频大电流整流电路。(b)面接触型(c)平面型(4)二极管的代表符号第31页,共45页。半导体二极管图片附录第32页,共45页。第1页,共45页。(优选)模拟电子基础第四康华光第二章第2页,共45页。2.1半导体的基本知识半导体材料半导体的共价键结构本征半导体杂质半导体第3页,共45页。半导体材料一、物体的导电特性根据物体导电能力(电阻率)的不同,来划分导体、绝缘体和半导体。半导体:介于导体与绝缘体之间,如:典型的半导体有硅Si和锗Ge以及砷化镓GaAs等。第4页,共45页。二、半导体的特点1、光敏性和热敏性:2、掺杂性:第5页,共45页。本征半导体一、本征半导体的结构特点GeSi通过一定的工艺过程,可以将半导体制成晶体。现代电子学中,用的最多的半导体是硅和锗,它们的最外层电子(价电子)都是四个。第6页,共45页。本征半导体:完全纯净的、结构完整的半导体晶体。在硅和锗晶体中,原子按四角形系统组成晶体点阵,每个原子都处在正四面体的中心,而四个其它原子位于四面体的顶点,每个原子与其相临的原子之间形成共价键,共用一对价电子。硅和锗的晶体结构:第7页,共45页。硅和锗的共价键结构共价键共用电子对+4+4+4+4+4表示除去价电子后的原子第8页,共45页。共价键中的两个电子被紧紧束缚在共价键中,称为束缚电子,常温下束缚电子很难脱离共价键成为自由电子,因此本征半导体中的自由电子很少,所以本征半导体的导电能力很弱。形成共价键后,每个原子的最外层电子是八个,构成稳定结构。共价键有很强的结合力,使原子规则排列,形成晶体。+4+4+4+4第9页,共45页。二、本征半导体的导电机理在绝对0度(T=0K)和没有外界激发时,价电子完全被共价键束缚着,本征半导体中没有可以运动的带电粒子(即载流子),它的导电能力为0,相当于绝缘体。在常温下,由于热激发,使一些价电子获得足够的能量而脱离共价键的束缚,成为自由电子,同时共价键上留下一个空位,称为空穴。1.载流子、自由电子和空穴第10页,共45页。+4+4+4+4自由电子空穴束缚电子第11页,共45页。2.本征半导体的导电机理+4+4+4+4在其它力的作用下,空穴吸引附近的电子来填补,这样的结果相当于空穴的迁移,而空穴的迁移相当于正电荷的移动,因此可以认为空穴是载流子。本征半导体中存在数量相等的两种载流子,即自由电子和空穴。第12页,共45页。本征半导体本征半导体——化学成分纯净的半导体。它在物理结构上呈单晶体形态。空穴——共价键中的空位。电子空穴对——由热激发而产生的自由电子和空穴对。空穴的移动——空穴的运动是靠相邻共价键中的价电子依次填充空穴来实现的。第13页,共45页。空穴的移动第14页,共45页。温度越高,载流子的浓度越高。因此本征半导体的导电能力越强,温度是影响半导体性能的一个重要的外部因素,这是半导体的一大特点。本征半导体的导电能力取决于载流子的浓度。本征半导体中电流由两部分组成:1.自由电子移动产生的电流。2.空穴移动产生的电流。第15页,共45页。杂质半导体在本征半导体中掺入某些微量元素作为杂质,可使半导体的导电性发生显著变化。掺入的杂质主要是三价或五价元素。掺入杂质的本征半导体称为杂质半导体。N型半导体——掺入五
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