CN119506784A 一种薄膜均匀性修正挡板的制作方法 （北京空间机电研究所）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119506784A(43)申请公布日2025.02.25

(21)申请号202411610677.7

(22)申请日2024.11.12

(71)申请人北京空间机电研究所

地址100094北京市海淀区友谊路104号

(72)发明人白云立武晓东王刚王利李昱昊

(74)专利代理机构中国航天科技专利中心

11009

专利代理师张晓飞

(51)Int.CI.

C23C14/24(2006.01)

C23C14/54(2006.01)

权利要求书2页说明书5页附图1页

(54)发明名称

一种薄膜均匀性修正挡板的制作方法

(57)摘要

CN119506784A本发明一种薄膜均匀性修正挡板的制作方法，首先使用镀膜机在K9基片上蒸镀适量的膜料，完成后使用检测仪器检测基片的反射率，后将反射率转换为膜厚。不同位置的基片，会转换出不同的膜厚值。其次，建立空间直角坐标系，描述膜料蒸发源位置、基片位置及运动方式，修正挡板的摆放平面等数学因子。再次建立数学模型，计算出修正挡板的宽度，依据宽度完成修正挡板的制作，最终使得各个基片上的膜厚大致相同，保证了光学产品镀膜后的面形变化量满足技术要求。此方法可节省大量的人力、物力，与其他制作方法相比较，计算结果更为精确，实验次数

CN119506784A

CN119506784A权利要求书1/2页

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1.一种薄膜均匀性修正挡板的制作方法，其特征在于，包括：

1)选取洁净玻璃基片5片，沿径向方向装卡在镀膜工装上后，均分放置，再将镀膜工装吊挂在镀膜机工件盘上；

2)镀膜机内放入要蒸发的膜料，保证吊挂的镀膜工装和膜料蒸发源之间无修正挡板；开始镀膜；

3)镀膜结束后，取出玻璃基片，测量镀膜后玻璃基片的反射率，得出反射率曲线；

4)在反射率曲线上选取波峰，利用分光光度计将反射率换算成膜厚，并记录每个基片的膜厚E;

5)选取一个数值J,计算得到膜厚差Q=E-J;

6)建立空间直角坐标系，原点为镀膜工装与蒸发源平面的交点，测量出蒸发源以及各个基片在空间直角坐标系中的位置，并用坐标表示出来；

7)以镀膜工装中心为圆心，以每个基片所在位置到原点的长度为半径，将镀膜工装的转动轨迹分为5个同心圆；

8)将每个同心圆的周长等分为N个弧长；

9)根据膜厚E和等分出的N个弧长，计算得到需要修正掉的弧长长度T;

10)在建立的空间直角坐标系内，任意选取修正挡板摆放的平面P;

11)任意选取基片转动时的一个位置，量出此时每个基片的坐标A1-A5,连接5个基片中心与蒸发源G的中心，形成5条空间直线，求出空间5条直线与空间平面P的交点，此时共有5个交点A6-A10;

12)利用需要修正掉的弧长长度T对弧长进行修正，再根据圆心、每个基片的坐标A1-A5,求出修正后弧长上另外一点B1--B5;

13)将点B1—B5与蒸发源G中心连接，形成5条空间直线，计算出此5条空间直线与平面P的交点B6-B10;

14)根据点A6-A10的坐标，B6-B10的坐标制作出修正板。

2.根据权利要求1所述的一种薄膜均匀性修正挡板的制作方法，其特征在于，所述玻璃基片采用K9玻璃基片，直径为25-35mm。

3.根据权利要求1所述的一种薄膜均匀性修正挡板的制作方法，其特征在于，所述工件盘采用只有公转，无自转工件盘。

4.根据权利要求1所述的一种薄膜均匀性修正挡板的制作方法，其特征在于，所述数值J小于5个基片中的最小基片厚度。

5.根据权利要求1所述的一种薄膜均匀性修正挡板的制作方法，其特征在于，所述N≥1000。

6.根据权利要求1所述的一种薄膜均匀性修正挡板的制作方法，其特征在于，所述根据膜厚E和等分出的N个弧长，计算得到需要修正掉的弧长长度T,包括：设膜厚E是由N个单位厚度累加而成，计算得到单位厚a=E/N;进而得出对应的每个同心圆上的弧长个数M=Q/a;设周长为C,则需要修正掉的弧长长度T=C×(M/N)。

7.根据权利要求1所述的一种薄膜均匀性修正挡板的制作方法，其特征在于，所述根据点A6-A10的坐标，B6-B10的坐标制作出修正板，包括：

在一个二维平面挡板上标记出点A6-A10以及B6-B10的坐标，依次连接点A6-A10,B6-

CN119506784A权利