CN119487633A 一种集成装置、制作方法、探测装置及终端 (深圳引望智能技术有限公司).docxVIP

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  • 2026-01-28 发布于重庆
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CN119487633A 一种集成装置、制作方法、探测装置及终端 (深圳引望智能技术有限公司).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119487633A

(43)申请公布日2025.02.18

(21)申请号202280097834.1

(22)申请日2022.10.28

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.01.08

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/CN2022/1283342022.10.28

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/087187ZH2024.05.02

(74)专利代理机构北京中博世达专利商标代理有限公司11274

专利代理师申健

(51)Int.CI.

H01L23/522(2006.01)

G01S17/02(2020.01)

G01S7/481(2006.01)

(71)申请人深圳引望智能技术有限公司

地址518129广东省深圳市龙岗区坂田街

道万科城社区华为公司华为总部办公楼101

(72)发明人张译蔡中华钟国伟

(54)发明名称

一种集成装置、制作方法、探测装置及终端

(57)摘要

CN119487633A本申请提供一种集成装置、制作方法、探测装置及终端,该探测装置可以为激光雷达,涉及电子技术领域,用以降低集成装置中引入的寄生,以提高集成装置的有效能量转换效率。该集成装置包括:衬底,具有交替且层叠设置的至少两个刻蚀层;位于该衬底上的激光器;该衬底远离该激光器的一侧设置有至少一个填充结构,该衬底和该填充结构可以构成电容,该填充结构包括绝缘层和第一金属层,该填充结构的高度小于该衬底的厚度。通过将该激光器与该电容设置在同一个衬底上,可以通过立体布局的方式减小该激光器与该电容之间的距离,同时实现该激光器

CN119487633A

激光器

激光器LR

GaAs层

AlGaAs层

GaAs层

第一

AIGaAs层

GaAs层

AlGaAs层

GaAs层

金属层一

填充

结构

至少两个刻蚀层

绝缘层

(12)按照专利合作条约所公布的国际申请

(19)世界知识产权组织

国际局

(43)国际公布日

2024年5月2日(02.05.2024)WIPOIPCT

(10)国际公布号

WO2024/087187A1

(51)国际专利分类号:

HO1L23/522(2006.01)G01S17/02(2020.01)

(21)国际申请号:PCT/CN2022/128334

(22)国际申请日:2022年10月28日(28.10.2022)

(25)申请语言:中文

(26)公布语言:中文

(71)申请人:华为技术有限公司(HUAWEI

TECHNOLOGIESCO.,LTD.)[CN/CN];中国广东省深圳市龙岗区坂田华为总部办公楼,Guangdong518129(CN)。

(72)发明人:张译(ZHANG,Yi);中国广东省深圳市龙岗区坂田华为总部办公楼,Guangdong518129(CN)。蔡中华(CAI,Zhonghua);中国广东省深圳市龙岗区坂田华为总部办公楼,Guangdong518129(CN)。钟国伟(ZHONG,Guowei);中国广东省深圳市龙岗区坂田华为总部办公楼,Guangdong518129(CN)。

(74)代理人:北京中博世达专利商标代理有限公司(BEIJINGZBSDPATENTTRADEMARKAGENTLTD.);中国北京市海淀区交大东路31号11号楼8层,Beijing100044(CN)。

(81)指定国(除另有指明,要求每一种可提供的国家

保护):AE,AG,AL,AM,AO,AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BH,BN,BR,BW,BY,BZ,CA,CH,CL,CN,CO,CR,CU,CV,CZ,DE,DJ,DK,DM,DO,DZ,EC,EE,EG,ES,FI,

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