CN116937138A 一种氮化物led有源微机械雷达锅及制作方法 （南京邮电大学）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN116937138A(43)申请公布日2023.10.24

(21)申请号202310691105.5

(22)申请日2023.06.12

(71)申请人南京邮电大学

地址210003江苏省南京市鼓楼区新模范

马路66号

(72)发明人朱刚毅邵衡马迪田沐霏

(74)专利代理机构南京纵横知识产权代理有限公司32224

专利代理师范青青

(51)Int.CI.

H01Q

HO1L

HO1L

HO1L

HO1L

1/36(2006.01)

33/12(2010.01)

33/06(2010.01)

33/32(2010.01)

33/00(2010.01)

B05D

C23C

C23C

H01QH01QG01S

1/00(2006.01)

14/30(2006.01)

14/18(2006.01)

19/13(2006.01)3/08(2006.01)7/03(2006.01)

权利要求书2页说明书5页附图4页

(54)发明名称

一种氮化物LED有源微机械雷达锅及制作方法

(57)摘要

CN116937138A本发明公开了纳米声波操控技术领域的一种氮化物LED有源微机械雷达锅及制作方法，旨在解决现有技术中雷达锅在转变探测方向时不能进行发光的问题。雷达锅包括硅衬底层，还包括微腔结构，所述微腔结构的中心由硅衬底层的顶部支撑，其余部分处于悬空状态；所述雷达锅在转变探测方向时，所述微腔结构能够产生自发辐射的荧光，照向所述雷达锅的探测方向；本申

CN116937138A

CN116937138A权利要求书1/2页

2

1.一种氮化物LED有源微机械雷达锅，包括硅衬底层(1),其特征在于：还包括微腔结构，所述微腔结构的中心由硅衬底层(1)的顶部支撑，其余部分处于悬空状态；

所述雷达锅在转变探测方向时，所述微腔结构能够产生自发辐射的荧光，照向所述雷达锅的探测方向。

2.根据权利要求1所述的氮化物LED有源微机械雷达锅，其特征在于：所述微腔结构包括氮化铝层(2),所述氮化铝层(2)上设有N型电极区域和P型电极区域；

在加上正向电压后，从P型电极区域注入到N型电极区域的空穴与N型电极区域的电子复合、由N型电极区域注入到P型电极区域的电子与P型电极区域的空穴复合，从而产生自发辐射的荧光。

3.根据权利要求2所述的氮化物LED有源微机械雷达锅，其特征在于：所述N型电极区域包括N型氮化物层(3)和分布于N型氮化物层(3)上的N型电极(7);所述P型电极区域包括P型氮化物层(5)和分布于P型氮化物层(5)上的P型电极(6);所述N型氮化物层(3)延伸至所述P型氮化物层(5)的底部，与P型氮化物层(5)之间设有量子阱层(4),所述量子阱层(4)用于电泵浦发光。

4.根据权利要求3所述的氮化物LED有源微机械雷达锅，其特征在于：所述P型氮化物层

(5)和所述P型电极(6)呈圆环形，所述N型电极(7)分布于所述圆环形围成的区间内。

5.根据权利要求1所述的氮化物LED有源微机械雷达锅，其特征在于：所述硅衬底层(1)为硅基材料。

6.根据权利要求3所述的氮化物LED有源微机械雷达锅，其特征在于：所述P型氮化物层

(5)和所述N型氮化物层(3)中的氮化物为氮化镓。

7.权利要求1至6任一项所述氮化物LED有源微机械雷达锅的制作方法，其特征在于，包括：

在氮化物外延片的上表面旋涂光刻胶，得到光刻胶层，通过光学光刻技术在旋涂的光刻胶层上定义所述的微腔结构，采用电子束蒸镀工艺在复合圆盘微腔结构上蒸镀金属镍；

通过ICP刻蚀技术向下刻蚀氮化物层，直至N型氮化物层(3)的中部，从而将上述定义出的微腔图形结构向下转移至外延片的P型氮化物层(5)、量子阱层(4)和N型氮化物层(3)中；

在P型氮化物层(5)的上表面旋涂光刻胶，得到光刻胶层，通过光学光刻技术在旋涂的光刻胶层上定义所述的微腔结构尺寸，采用电子束蒸镀工艺在图形上蒸镀金属镍；

采用ICP刻蚀技术向下刻蚀氮化物层，刻蚀直至硅底衬层的上表面，从而在硅基氮化物外延片的上表面旋涂光刻胶，得到光刻胶层，采用光刻工艺在光刻胶层中心区域和左、右两侧分别定义出n型区透明电极图形和p型区透明电极图形，采用电子束蒸镀技术在p型区透明电极图形上表面蒸镀正电极，在n型区透明电极图形上表面蒸镀负电极；

利用各向同性，采用湿法刻蚀工艺刻蚀硅衬底层(