真空镀膜综述.pdfVIP

2011年 6月 现代涂辩与潦墓 Jun．201l 第 14卷第6期 ModernPaint Finishing Vo1．14 No．6 真空镀膜综述 黄鸿宏，黄洪填，黄剑彬，陈锦珍，王兆勤 (深展实业有限公司，广东揭阳522ooo) 摘 要：简要介绍了真空镀膜技术的发展以及真空镀膜过程中常用的镀膜材料和镀膜基材 ，重点分析了真空镀膜涂料作 用、品种和发展方向。 关键词：真空镀膜；镀膜材料 ；镀膜基材；真空镀膜涂料 中图分类号：TQ639 文献标识码：B 文章编号：1007—9548(2011)060022—03 SummarizeofVacuum Coating HUANGHo，2 ong,HUANGHong-tian,HUANG 一bin,CHEN Jin-zheng,WANGZhao-qin (GuangdongShenzhanIndustryCo．，Ltd．，GuangdongJieyang，522000，China) Abstract：Thedevelopmentofvacuum coatingtechnology isbrieflyintroduced，aswellasthematerialand substrate ofcoating in thisarticle．Itmainlyanalyzesthe effect，varietiesand developmentdirection of vacuum metalizingcoating． Keywords：vacuum coating；coatingmaterial；coatingsubstrate；vacuum metalizingcoating 1 引言 2 镀膜材料 真空镀膜技术起源于20世纪30年代，直到80年 镀膜材料有金属单质 ，如铝、锡、钴、镍、铜、银、金 代才形成工业化大规模生产，广泛应用于电子、装饰装 等；有合金，如镍一铬、镍一铁、铁～钴、镍一金等；也有金 潢、通讯、照明等工业领域。真空镀膜是在真空环境下， 属化合物 ，如 SiO、SiO2、TiO2、A1zO3、SnO、CeO2、BiO3、 金属或金属氧化物变成气态原子或分子，沉积在金属 MgF：、ZnS等。目前，使用最普遍的镀膜材料是金属铝。 或非金属表面而形成。和传统的电镀法相比，真空镀膜 这是由铝的特性所决定的：①铝的熔点低 ，约为659 具有低能耗、无毒、无废液、污染小、成本低、装饰效果 ℃；②在现有镀材中，铝对光的反射率最高，厚度 4．0× 好、金属感强等优点，是一项很有发展前途的新技术。 10 m(400A)的铝膜层，其光反射率达到90％；③经 目前使用最广泛的镀膜方法，主要有热蒸发镀膜法和 久耐用，能在较长的时间里保持较高的反射率和金属 磁控溅射法。 光泽；④蒸发温度低，易于操作，在真空条件下，其蒸发 本文分别就真空镀膜过程中涉及到的镀膜材料、 温度介于 1100～1800oC之间；⑤铝膜对气体的阻隔 镀膜基材及镀膜涂料等进行逐一的论述。 性好；⑥高纯度的铝价格比较便宜。随着真空镀膜技术 性能起到 1+12的改善效果。将颜填料有针对性选 量与涂料品种更新提供新思路与新方法。 配，就可能产生协同效应。涂料配方设计者应着力探 寻、发掘，利用协同效应示例，为增加涂料产品技术含 收稿 日期 ：2011-03—14 2011年 6月 现代涂料与溶装 Jun．2