- 1、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。。
- 2、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载。
- 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
- 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
第六届全国循环经济与生态工业学术研讨会
中国山西2011年8月12.14日
四氯化硅液相水解法制备二氧化硅粉体的研究
乔永志,张云,张志昆,张向京+
(河北科技大学化学与制药工程学院, 河北石家庄050018)
摘要:四氯化硅是多晶硅生产中主要副产物,具有强腐蚀性,按目前的消耗途径和产量,已无法安
全处理。本文以副产四氯化硅为原料,在酸性电解质溶液中制备二氧化硅粉体。考察了物料比例、
反应温度、加料速率、陈化时间对产品比表面及产率的影响,采用x射线衍射仪、比表面积测定仪
和扫描电子显微镜对晶体结构、产品的形貌、比表面积进行了表征。结果表明,底物中电解质采用
温度为45℃,加料速率为0.35mol·h_1,陈化时间为0.5h时,反应混合物具有较好的过滤性能,并可
得到纯度较高,颗粒较小,比表面分布窄的二氧化硅纳米颗粒,达到作为橡胶补强剂的工业应用指
标。
关键字:四氯化硅,水解,二氧化硅,比表面积
引言
多晶硅是光伏太阳能产业的基石,需求量呈现几何级数的增长,随着国内众多大型多晶硅项目
的上马,其下游副产物四氯化硅的大量积蓄限制了多晶硅产业链的健康发展。四氯化硅作为一种高
度危险的化学品,不能用普通的方法进行处理。四氯化硅的安全和环保问题日益突出【¨。水合二氧
化硅在工业上又称为白炭黑,具有化学稳定性好、耐高温、不燃烧、电绝缘性好等性能,是橡胶、
塑料、涂料、医药、农药、造纸及日用化工诸多领域重要的无机填料团。近年来,许多研究者致力
于探索新的四氯化硅消耗路径,通过改进气相法工艺以获得合适粒度分布的二氧化硅产品。我国对
四氯化硅生产白炭黑工艺的研究起步较晚,生产的大部分产品与国外产品相比存在明显差距,研究
开发粒径小、分布窄的高性能纳米白炭黑势在必行。
目前以四氯化硅为原料制备二氧化硅粉体的方法主要有气相法、有机溶剂法、直接水解法、碱
性水解法。气相法是将四氯化硅气化与水蒸气反应生成二氧化硅,此工艺需在高温高压下进行,设
备材质要求苛刻,生产成本高【31。有机溶剂法是在四氯化硅在有机溶剂体系下发生水解反应。J.&
Heley,D.Jackson等【4】人在四氢呋喃溶液中进行四氯化硅水解反应,可得到低密度、高比表面积、高
纯度的二氧化硅产品,所得产品可用于制备热保温材料。由于有机溶剂有毒,污染环境,尾液处理
困难,工艺可发前景不大。赵月敏等【5】在水与四氯化硅的比值在1.5.2之间置于水解反应器中反应,
4小于30:l时,能够达到快速
生成了凝胶状的硅酸。J.W.Fleming,S.A.Fleming【6】寻找到H20:SiCI
凝胶。硅酸工业应用范围窄,不利于该方法大规模推广。张香兰等【71在不同碱性溶液中制备二氧化
is】也提到了,碱可以作为此反应的催化剂。但碱性环境中和了产物氯化氢,造成
硅。Butler,James
作者简介:乔永志(1983年.),男,硕上研究生
通讯联系人:张向京,E-mail:kcdaqyz@163.com
榭
第六届全国循环经济与生态工业学术研讨会
中国山西2011年8月12.14日
了资源浪费。
而以四氯化硅为原料,酸性水溶液中制备二氧化硅的方法还未见有关报道。该工艺具有原料价
廉易得,工艺流程简单,操作容易,成本低。既避免了四氯化硅对环境的污染,又得到高附加值的
白炭黑。产品粒径分布窄、纯度高,达到作为橡胶剂填充剂的工业应用指标。本实验提供了一种节
能减排,绿色环保的四氯化硅消耗途径和二氧化硅的清洁生产途径。
1实验部分
1.1反应机理
式为【5】:
SiCl4+nH20-Si02(n-2)H20+4HCl
Si02(n-2)H20_Si02+(n-2)H20
1.2主要原料
表l
文档评论(0)