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oFPZT
CHARACTERIZATIONFERRoELECTRICTHINFILMS
PREPAREDBYAMoDIFIEDSoL.GELMoTHED
Da-qunBAO,Yi GUO
ZHANG,Hang
SahMEMSResearch
Center,Xiamen 361005.Chha
Pen·Tung University,Xiamen
E·mail:hangguo@3mau.edu.Gn
TaoGUO
School Science 830046,China
ofinformationandEngineering,XinfiangUniversity,Urumqi
This and ofPZTferroelectricthinfilms the
the characterization by
paperpresentsgrowth usingsol-gel
theinfluencesof filmthicknessanddifferent
technology.Westudy annealingtemperatures.different
titaniumand onsiliconsubstrate,ontheferroelectric of
substrates,includingplatinumlayers performance
PZTthinfilms the elec仃ichvsteresisofPZTthinfilmsis
by
analyzingpolarizationhysteresis.The Ioop
thinfilms
measured a Tower resultsshowthattheremnant ofPZT
byusingSawyer circuit.The polarization
iS withtheincreaseof theremnant iS and onTi
higher thickness,and 8.61aC/cm211.OttC/cm2
polarization
electrodeandPt/Tielectrodeatthe of thePZTthinfilms
annealingtemperature650℃.respectively.ThUS
by the methodcanbeusedfor PZT-basedferroelectricMEMSdevices.
preparedusingsol-gel developing
thin
Keywords:PZTfilms,Sol·gelmethod,ferroelectric
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