高温超导薄膜在激光辅助化学刻蚀中的表面特性.pdfVIP

光电子·激光 第18 卷第3 期 2007 年3 月 J · oI. 18 No. 3 Mar. 2007 ! 高温超导薄膜在激光辅助化学刻蚀中的表面特性! !! 刘娟秀 ，羊 恺，补世荣，张天良，宁俊松，罗正祥 （电子科技大学电子工程学院微波中心，四川成都610054 ） 摘要：提出了将激光辅助化学刻蚀技术应用于钇钡铜氧（YBCO ）高温超导薄膜的刻蚀，研究了无掩膜YBCO 薄 膜激光化学刻蚀的表面特性及其变化规律，为YBCO 激光化学刻蚀技术中图形形状控制、刻蚀时间选择和激光 YBCO 薄膜的液相刻蚀速率大大加快，将极大改 功率调节等提供了重要的实验结论。研究发现：在激光辐照下， 善刻蚀中的横向钻蚀情况，并提高图形边缘的侧壁陡峭度，且整个过程中的刻蚀速率呈现加快趋势；无掩膜时， YBCO 表面刻蚀程度持续过渡，激光光斑边界两侧并非严格分界；衬底铝酸镧（LaAIO ）的晶向对YBCO 薄膜的 3 表面刻蚀特征有较大影响，沿LaAIO3 晶向方向的刻蚀程度高于非晶向方向。 关键词：激光辅助化学刻蚀；高温超导薄膜；钇钡铜氧（YBCO ） 中图分类号：O484 文献标识码：A 文章编号：1005-0086（2007 ）03-0296-03 Surface Properties of YBCO HTS film in Laser Assisted Chemical Etching Process LIU Juan-xiu !!，YANG Kai ，BU Shi-rong ，ZHANG Tian-Iiang ，NING Jun-song ， LUO Zheng-xiang （Microwave Center，University of EIectronic Science and TechnoIogy of China，Chengdu 610054，China ） Abstract ：The Iaser assisted chemicaI etching was proposed to appIy in the etching of YBCO high temperature superconductor （HTS ）fiIm ，which was a significant appIication invoIving superconductor eIectronics，Iaser technigue and chemistry. The etched surface characteristics and variations were studied，and important experimentaI resuIts were provided to controI the fig- ure shape ，etching period and Iaser power. The major concIusions incIude：the wet etching speed of YBCO fiIm was acceIerated drasticaIIy under Iaser radiation and increased over time；there was no strict