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从专利技术角度浅谈光学防伪技术的发展 　　摘 要：本文对防伪印刷中的光学防伪技术领域的专利申请趋势、专利申请产出国和申请人分布进行了统计分析，并重点针对光学防伪四大主要研究方向进行技术分析，对其技术方向和技术手段的发展脉络进行了梳理。通过本文的撰写，以期帮助审查员快速准确地把握技术要点，以提高检索和审查效率。 　　关键词：印刷;防伪;光学防伪;专利分析;技术综述 　　1 光学防伪技术概述 　　 印刷防伪技术是一种综合性的防伪技术，包括防伪设计制版、精密的印刷设备和与之配套的油墨、纸张等。单纯从印刷技术的角度来看，印刷防伪技术主要包括：雕刻制版、用计算机设计版纹、凹版印刷、彩虹印刷、花纹对接、双面对印技术、多色接线印刷、叠印、缩微印刷技术、折光潜影、隐形图像和图像混扰印刷。 　　 而其中的光学防伪技术，是利用光学特性进行防伪的技术的总称，其将光的自然特性与人的视觉特性相结合，形成了特有的防伪工艺。 　　 从90年代初期开始，发达国家非常重视防伪技术的开发利用以保护本国知识产权和高附加值产品，在短短几年里，防伪技术迅猛发展，一大批防伪技术政府实验室和研究机构相应建立。国际光学工程学会（SPIE）已连续多年举办光学防伪技术座谈会，美国国家基金会（NSF）、美国国防部高级研究计划局（DARPA）和美国空军（USAF）也多次联合举行专题研讨会，讨论光学在安全、加密和防伪中的作用，使得这一领域的研究空前活跃。 我国的光学防伪研究，也在这种国际大环境中，得到了快速的发展。 　　2 光学防伪专利技术的整体情况 　　2.1 专利申请量趋势分析 　　 下图1为光学防伪专利申请量在全球的趋势图。由图可见，自20世纪60年代起，已出现了对于光学防伪技术的专利申请，但直至20世纪80年代，发展一直较为缓慢，自20世纪90年代起，随着防伪技术的广泛使用，有关光学防伪技术的专利申请量开始迅速增长，到了21世纪申请量基本保持震荡上升的发展趋势。 　　 为了比较国内外光学防伪技术的发展趋势，对光学防伪专利申请量在国内的发展趋势也做了相应的统计。下图2为光学防伪专利申请量在国内的趋势。由图中可见，国内光学防伪专利申请基本上于20世纪90年代起步，随后一直处于快速增长的阶段，到21世纪初期到达小的高峰，随后也处于震荡上升的趋势，2013年之后的申请量的下降可能是近两年申请的专利还有大量未公开的原因。从图中的数据比较也可以看出，国内光学防伪技术的发展起源滞后于国外，但发展速度和上升趋势强劲，这与我国经济的快速发展有着密不可分的关系。 　　 由图1、图2可以看出，中国的光学防伪技术的发展趋势与国际范围内的相关技术的发展趋势相比，有以下特点： 　　 （1）起步较晚。中国首次出现相关的光学防伪的专利申请比全球范围内的首次专利申请晚了大约20年，这一方面与我国的专利制度的形成时间较晚有一定的关系，另一方面也说明了，我国对于光学防伪的早期技术的研究比较滞后。 　　 （2）发展的趋势大致相同。从图1、图2中可以看出，从20世纪90年代开始，中国有关光学防伪的相关专利申请的申请量，伴随着国际范围内对于防伪技术研究的持续升温，也出现了一段持续快速的增长期，可见，国内光学防伪技术的研究逐步与国际相接轨。 　　 （3）发展势头强劲。中国有关光学防伪技术的研究和相关专利申请的起步较晚，但发展势头强劲，并且有持续震荡升高的趋势，可见，在国内对于光学防伪的应用范围和研究范围在不断发展和扩大，对于专利技术的创新性研究也在不断发展。 　　2.2 专利申请产出国和目标国分布 　　 专利申请产出国通常是指一项技术的原创技术国，通常来说，一个国家拥有的原创技术越多，说明其在该技术领域的研发能力和技术实力也越强。 　　 通过对所检索到的专利文献产出国进行统计分析（如图3所示），排名靠前的国家依次为中国、美国、德国、日本和英国，并且排名第一的中国的申请量远远高于其他国家，显示出极度的开发研究活跃度。 　　 专利申请目标国通常是指一项技术的专利申请地国家，通常来说，一个国家的相关专利的申请量越大，说明该项技术的该国家的市场份额及发展价值越大。 　　 通过对所检索到的专利文献目标国进行统计分析（如图4所示），排名靠前的国家依次为中国、美国、日本、德国，并且排名第一的中国的申请量高于其他国家，显示出极高的市场关注度。 　　 由图3、图4可以看出，中国有关光学防伪的专利技术的发展势头强劲，无论是申请量还是技术原创度都排在世界前列。 　　 这一方面说明了，国内对于防伪技术的研究活跃度较高，另一方面也说明了，防伪相关技术在中国的市场发展前景广阔。 　　 形成这样的局面的原因一方面是由于国家对于发展原创性发明的大力支持，另一方面也体现了中国市场对于防伪技术的高关注度和技术的