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多弧离子镀TiAlN涂层探究进展 摘要：文章概述了多弧离子镀TiAlN涂层的研究现 状及发展趋势，详细分析了 A1元素含量和弧电流、N2流量、 基体偏压、温度等工艺参数对TiAlN涂层的结构、硬度、结 合力、耐磨性等性能的影响。目前，多弧离子镀TiAlN涂层 存在液滴数量多，为了进一步促进多弧离子镀TiAlN涂层的 应用，需进一步优化工艺，发展纳米TiAlN涂层。 关键词：多弧；离子镀;TiAlN涂层；研究 多弧离子镀属于离子镀的一种改进方法，最早是由苏联 人开发，上世纪80年代初，美国的Multi- Arc公司和Vac- Tec公司首先把这种技术实用化［1］。其基本原理［2］是在真 空腔内，基底与蒸发源施加一电场，当腔体压力适当时，蒸 发源与基底之间会产生辉光放电或弧光放电，在和电子碰撞 过程中，会形成气体离子和靶材（薄膜材料）的离子，这些 离子在电场中被加速飞向基底，于是在离子轰击影响下发生 凝结而形成薄膜。多弧离子镀TiAlN涂层是在TiN涂层的基 础上发展起来的一种新型三元复合涂层，TiAlN涂层具有更 高的硬度、抗高温氧化性、热疲劳性能、耐磨性等特点，目 前在模具制造、航空发动机和生物医学等方面已有应用 ［3-5］ o因此，多弧离子镀TiAlN涂层近年来受到广泛地关 注。 1 TiAlN涂层的性能 1 Al元素对涂层结构的影响 3 A1元素对涂层结合力的影响 4 A1元素对耐磨性的影响 A1元素对TiAlN涂层耐磨性的作用具有双重性［16］, 研究表明，摩擦系数随着A1含量的增加而减小，耐磨性能 提高。 1.5靶材的选择 A1元素的引入可改善涂层结构，提高硬度、结合力和耐 磨性，为了在冲压模具上获取更优质性能的涂层，首先应考 虑基材与TiAlN涂层的关系，其次最重要的是靶材的选择和 工艺参数的优化。张德元［17］研究表明分离靶（Ti靶、A1 靶）不利于整炉产品涂层的均匀性，因此，一般来说选择TiAl 合金靶作为靶材。 2多弧离子镀工艺参数对TiAlN涂层的影响 1弧电流对TiAlN涂层的影响 试验研究发现，弧电流与涂层厚度呈正比关系，同时硬 度也随着弧电流的增加而增加。但是对于一定的靶材，增加 弧电流，意味着靶材整体温度的升高，相应的液滴的产生会 随之增多，而且液滴的尺寸也会增大，在沉积的过程中会形 成大颗粒，大大降低涂层的各种性能。 图3不同弧流条件下TiAlN膜层的表面形貌 从图3可以看出，当电流从60 A增大到100 A时，薄 膜表面的颗粒尺寸越大，数量也越多，涂层表面的大颗粒缺 陷也就越严重，因此，在不影响涂层厚度的情况下，尽量采 用低电流。 2 N2流量对TiAlN涂层的影响 3结束语 1多弧离子镀TiAlN涂层由于A1元素的引入可改善 涂层结构，提高硬度、结合力和耐磨性。 3.2选择TiAl合金靶作为阴极靶材，有望获得更加均 匀的涂层。 3.3弧电流为60A,基体偏压为-800V时，TiAlN涂层表 面液滴密度和直径较小。 4 N2流量为200sccm时,TiAlN涂层硬度高达3300HV。 3.5为了进一步研究多弧离子镀TiAlN涂层的性能及应 用，还需进一步优化工艺参数，获得纳米涂层。 参考文献 蔡，表面工程技术工艺方法400种[M],北京：机 械工业出版社，2006, 271 赵时璐，多弧离子镀Ti-Al-Zr-Cr-N系复合硬质膜 的制备、微结构与性能[D],沈阳：东北大学，2010, 15-16 Xin Li, Liu Ping, Feng Changjie, et al. Fatigue behavior of (graded) (Ti, Al) N-coated !CrllNi2W2MoV stainless steel at high temperature[J]? Surf Coat Techn, 2010, 204 (15)： 2417 Zhu Y C, Fujita K, Iwamoto N, et al. Influence of boron ion implantation on the wear resistance of TiAlN Coatings[J]. Surf Coat Techn, 2002, 158-159： 664 Jeong J J, Hwang S K, Lee C M. Nitrogen f 1 ow rate dependence of the growth morphology of TiAlN films deposited by reactive sputtering[J]. Surf Coat Techn, 2002, 151-152： 82. Zhao ShengSheng, Du Hao, Zheng JingDi, et al. Depo