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在线低辐射镀玻璃的制备与应用 1 低辐射薄膜蒸发法 作为建筑物的明亮窗户，它与人们的生活密切相关。普通玻璃,对中远红外热射线的辐射率很高,使普通玻璃因保温性能差而成为建筑物能耗的主要泄漏源,据统计从玻璃泄露的热量占到整个建筑物流失热量的40%。由此可见,玻璃对节能的作用不可忽视。随着世界能源危机的日益加剧,如何降低建筑耗能已成为重要研究课题。 在线低辐射(Low-E)镀膜玻璃是对中远红外辐射具有较高反射率的新型节能镀膜玻璃。该产品是在浮法生产线的锡槽和退火窑内,采用特殊的反应器通道结构,利用CVD工艺将镀膜原料在高温下连续热解,沉积在移动的玻璃表面,制成低辐射镀膜玻璃。由于在高温下连续成膜,充分利用浮法玻璃的热能优势,无需升温、清洗、干燥等环节,因此生产规模大、生产成本较低、膜层与玻璃结合牢固、能单片使用并可进行热加工。使其成为平板玻璃加工的重点产品,是实现建筑节能必选的幕墙、窗体材料。 2 snp2和红外热辐射的复合膜sno2 在线Low-E玻璃的膜层结构主要是由折射率梯度变化的中间层(也称为阻挡层或颜色衰减层)和低辐射层组成。低辐射层作为外膜层,主体成分是掺杂的SnO2-n-型导电薄膜,导电性质介于传统半导体(如Si、Ge、Ga、As)和金属之间。其本征吸收边缘位于λ≈345 nm,决定其约90%的紫外吸收、90%的可见光透射比。由于高浓度的(1 020 cm-3)自由电子吸收,在中远红外区SnO2有接近90%的反射率,故SnCO2有阻断远红外热辐射能的功能。制备在线Low-E玻璃的基本工艺过程是在浮法玻璃生产线的锡槽内的第一镀膜区,以硅类物质为主反应气体,利用化学气相沉积镀膜(CVD)技术在玻璃表面上,形成以SiOxCy、为主体的中间(阻挡)膜层,作用是抑制热玻璃基体中的碱金属离子以受主杂质的形式扩散到导电膜层中,对施主起补偿作用,引起导电率降低,而劣化隔热性能,并降低低辐射镀膜玻璃表面的色饱和度。随后在浮法玻璃生产线退火窑A0。区内的第二镀膜区,以金属有机物化学气相沉积(MOCVD)技术,将以有机锡化合物为主前质体的镀膜原料经气化流程的处理,以气体形式随主气流通过位于玻璃带上方的镀膜反应器引入到移动的热玻璃表面;在有氧源存在的条件下,利用烷氧基的热解作用,在玻璃表面沉积被掺杂的氧化锡膜层(SnO2:F低辐射层);精确控制两膜层的光谱性能和光学常数,通过精密的光学膜系匹配制造出辐射率低、可见光反射比低、表面色饱和度低、节能效率高的低辐射镀膜玻璃。在线生产的低辐射镀膜玻璃是以洁净、高温、高速拉引的浮法玻璃带为基体,膜层是在高温状态下分解形成,随着玻璃的冷却,膜层与玻璃基体紧密吸附。膜层牢固耐用、可热弯、钢化、单片存放;使用膜层化学稳定性好、不存在氧化问题,因此也称其为“硬镀膜”。 3 纳米薄膜的制备 利用先进的浮法在线CVD玻璃镀膜技术,制备在线低辐射玻璃的反应和薄膜形成的基本过程分为下列步骤: ①参加反应的气体混合物进入到沉积区; ②反应物气体由主气流扩散到达玻璃表面; ③反应物分子吸附在玻璃表面; ④吸附分子间或吸附分子与气体分子间在玻璃表面发生化学反应、成核和生长,形成纳米级膜和反应副产物; ⑤副产物分子由玻璃表面外扩散到主气流中排出。 因此CVD内的输运性质(包括热量、质量及动量输运)、气流的性质(包括运动速度、压力分布、气体加热、激活方式等)、介质的气化、反应器的位置与基板的距离、输送气体的均匀性、气体的化学成分、比率、基板种类、表面状态、温度分布状态等都影响薄膜的组成、结构、形态与性能。此外实现气相化学沉积镀膜的反应环境(锡槽)及其工艺状况也是重要的影响因素。 (1) 锡槽及锡槽温度设计 玻璃基板的状况和温度场直接影响镀膜的物理效应和化学反应。从在线CVD镀膜的原理和薄膜形成过程可知,镀膜介质在玻璃上的物理效应和化学反应需要的能量,是由玻璃基板的温度场提供的。不同的温度场将适宜镀不同的膜质,不同的温度场也可以生成同膜质但性质有差异的膜层。因此确定特定的气相反应介质吸附和发生化学反应的温度,选择适宜的镀膜位置以满足成膜的需要非常重要。尤其是锡槽温度制度的稳定和横向温差,对于化学吸附和化学反应的进行、反应的效率、成膜的质量和均匀性影响极大。膜层氧化物是通过一定的化学反应在玻璃表面上形成公用的硅氧键而与玻璃联结在一起的。根据阿累尼乌斯方程: 式中:k反应速率常数;T为热力学温度; A为指前因子;Ea为阿累尼乌斯活化能。 可知成膜介质的反应速率与其所处反应环境温度有关,研究含有镀膜成分的前驱体热解适宜的温度是在线镀膜的重要课题。从阿累尼乌斯能量方程可知镀膜反应器位置的选择和锡槽温度制度的稳定对于成膜反应的速度、效率及膜层的沉积厚度具有重大影响。在线低辐射玻璃反应器横跨高速拉引的高温玻璃板上,基板的温度提供了物理效应和