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光电侦查平台电磁屏蔽设计与试验 0 抗辐射屏蔽技术 在现代战场上，高密度、高灵敏度、大、宽带等网络系统和设备被集中在现代战场上。战场上的兼容性问题十分突出。在很大程度上，每个操作单元都将受到影响，这直接限制了电子设备的操作效率。光电侦察平台在战场侦察、监视、指挥、通信、控制、情报系统及后勤保障等方面获得了日益广泛的应用。它具有结构精密,电路复杂,高低频交错、强弱信号交叉等特点,既易受干扰也易引起干扰。所以在工作时会产生电磁耦合和电磁辐射,若不加以控制,就会使系统内或系统间其他设备受到电磁干扰,造成系统性能下降甚至出现故障。因此,开展研究它的电磁兼容性对未来的高效作战提供了保障。屏蔽是抑制辐射干扰、提高系统电磁兼容性的最有效手段之一。它是采用电磁屏蔽材料将电磁敏感电路封闭隔离,使其内部电磁场强度低于预计值的一种措施,或是采用电磁屏蔽材料将电磁辐射干扰源封闭隔离,使其外部电磁场强度低于预计值的一种措施。 参考文献报道了一些抑制设备电磁辐射的措施,对文中的有一定的参考价值。由于光电侦察平台自身的特殊性以及苛刻的电磁环境要求,文中将深入挖掘适用于本系统的屏蔽技术,期望能显著提高系统的电磁兼容性。同时,在整个电磁兼容试验中,电场辐射发射(RE102)是光电侦察平台最易超标的,也是最难避免的试验项目。文中将重点研究屏蔽技术在提高光电侦察平台电场辐射发射中的应用。 1 广域光谱检测平台的屏障困难分析 光电侦察平台基本都是“光-机-电”一体化集成系统,相比其他设备有着很多特殊性,所以给设备屏蔽带来了很多困难,主要体现在以下几个方面。 1.1 气动有形 光学玻璃窗口的作用有:参与系统成像;保护内部光学系统;保证气动外形。所以光学玻璃窗口要选用与内部光学系统相匹配的玻璃材料,而不能使用导电性能良好的金属材料,这样就形成了电磁辐射泄漏窗口。 1.2 精密轴系结构设计 理想的电磁屏蔽体必须是一个完整的、连续的导电体。而光电侦察平台为了满足稳定精度、搜索范围的要求,其结构形式一般采用两框架两轴稳定,三框架三轴稳定及四框架两轴稳定等。无论那种结构形式,都必须要有精密的轴系来支撑。由于转动轴系及框架外壳的存在,使其结构必然形成不连续的导电体,较易引起电磁泄漏。 1.3 系统内辐射干扰多 典型的机载光电侦察平台一般都是由可见光、红外、激光、数码相机等有效载荷集成到一起,加上测速、测角、定位等功能模块,来实现对目标的全方位侦察。各种元器件集成到一起,相互间就会产生电磁干扰。轻微的干扰是系统内部可以正常工作,但对外辐射干扰难以预测,不易采用措施保证对外无干扰。严重的电磁干扰甚至会使系统内部各功能丧失。 1.4 按民用价值的元件进行二次加工 国内在成像技术研发方面的发展与国外有着较大的差距,目前从国外获得的一些元器件诸如探测器、陀螺及电机等,其中的一些指标基本都是按民用标准执行。一般都需要对这些元器件进行二次加工处理,使其能达到所需的技术指标要求。 由于光电侦察平台具有以上众多的、不同于其他设备的特点,要对它采取相应措施,使其电磁兼容性满足严格的标准要求,就显得相当困难了。 2 黑暗检测平台的屏蔽措施 在某型光电侦察平台电磁兼容整改设计中,主要采取了以下屏蔽措施,来提高其电磁兼容性。 2.1 工作机理分析 光学玻璃窗口要选用与内部光学系统相匹配的玻璃透明材料。所以对玻璃窗口的屏蔽处理基本上都是在窗口玻璃表面镀一层电介质层,并要求玻璃的镀电介质层与金属外壳良好接触,即可提高其屏蔽效果。但是这样就会降低整个光学系统的透过率。 一种新的工艺技术就是在玻璃窗口表面镀一层感性网栅膜实现电磁屏蔽,作为一种非连续透明导电膜,感性网栅膜在电磁屏蔽方面有广泛应用。该方法对光学系统的透过率影响相对较小。并且可以根据实测的系统内部电磁干扰频段选择不同的网格尺寸。实践证明这种工艺技术可有效提高玻璃窗口的屏蔽性能,如图1所示。作为一种薄膜屏蔽材料,具有厚度薄、质量轻、屏蔽带宽宽的特点,是透明玻璃窗口电磁兼容设计的首选结构材料。 2.2 系统内各组件及系统间相互作用的影响 理想的电磁屏蔽体是一个完整的、连续的导电体,故能将电磁干扰隔离。而光电侦察平台是一个复杂的光电成像测量设备,势必会存在孔、缝等电磁泄露空间,引发系统内各组件及系统间相互作用产生耦合,从而影响系统的正常工作。故在进行系统电磁屏蔽设计时,需要处理好孔、缝等部位。 2.2.1 截止频率选取 波导是用简单的管状金属结构制作,并呈现高通滤波器的特性。波导可以阻止或衰减截止频率以下的信号,同时允许截止频率以上的信号通过,如图2所示,这与高通滤波器的频率特性相似。利用这个特性,可以使干扰信号的频率落在波导的截止区内,这样波导起到了电磁屏蔽的作用,称为截止波导。 对于圆形截面的波导可表示为: 对于矩形截面的波导可表示为: 式中:D为圆形