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硬盘磷化铟基板CMP抛光液.doc

硬盘磷化铟基板CMP抛光液.doc

    硬盘磷化铟基板CMP抛光液

    原料配比

    原料

    配比（质量份）

    1#

    2#

    胺碱

    200

    100

    KOH

    50

    25

    18MΩ以上超纯去离子水

    250

    125

    FA/O活性剂

    50

    15

    FA/O螯合剂

    50

    15

    粒径15~25纳米SiO2溶胶

    3000

    3200

    去离子水

    400

    520

    制备方法

    （1）将密闭反应器系统用去离子水负压涡流下清洗三遍；

    （2）在负压涡流状态下逐渐加入胺碱调节pH值，加入胺碱，无机强碱试剂用18MΩ以上超纯水稀释后在负压涡流状态下逐渐吸入，加入无机强碱，pH值调节为9~12；

    （3）在负压涡流状态下逐渐加入天津晶岭微电子材料有限公司销售FA/O活性剂，加入

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