用于计算机硬盘基片化学机械抛光的抛光液.doc

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用于计算机硬盘基片化学机械抛光的抛光液

原料配比

原料

配比(质量份)

1#

2#

3#

4#

5#

螯合剂

FA/O

0.5

1.5

4

EDTA

5

1

PH值调节剂

三乙醇胺

0.5

2

2.5

四甲基氢氧化胺

5

四乙基羟乙基乙二胺

4.5

浓度40%,粒径25~30nm硅溶胶

90

浓度40%,粒径35~40nm硅溶胶

60

浓度40%,粒径40~50nm硅溶胶

70

浓度50%,粒径35~40nm硅溶胶

58

浓度50%,粒径25~30nm硅溶胶

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