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第 39卷 第 10期 金 属 学 玫 V_01.39 No.10
2003年 10月 ACTA M ETALLURGICA SINICA Oct. 2003 PP.1065-1070
高温氧化时AI203/FeAI界面孔洞形成过程的分析
牛 焱
(中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳110016)
侯 嫣
(MaterialsSciencesDivision,LawrenceBerkeleyNationalLaboratory,Berkeley,CA94720)
摘 要 合金高温氧化时在氧化膜 /合金界面处常出现孔洞,显著地削弱氧化膜的黏附力.研究了1000℃氧化后Fe-40%Al
合金 /氧化膜处孔洞的生成过程,并测定孔洞数量与体积随氧化时间的变化.将经不同时间氧化试样表面形成的氧化膜揭去后,用
扫描电子显微镜和原子力显微镜测定界面处孔洞的大小和深度.同时基于氧化过程中产生的空位全部聚集形成孔洞的考虑,计算了
形成孔洞的总量.把实验结果与理论计算进行比较,讨论了氧化膜 /合金界面处孔洞形成的机制.
关键词 孔洞,界面,氧化,FeIAl,AI2O3
中图法分类号 TG172.82 文献标识码 A 文章编号 O412—1961(2o03)10--1065--06
CHARACTERIZATIoN oF PoRE DEVELoPM ENT AT
AI203/FeAIINTEREAcEDuRINGHIGH
TEM PERATURE oXIDATIoN
NIU Yan
StateKeyLabforCorrosionandProtection,InstituteofM etalResaerch,TheChineseAcademyofSciences,Sheyang
110016
日D ynn
M aterialsSciencesDivision,LawrenceBerkeleyNationalLaboratory,Berkeley,CA 94720
Correspondent:NIUYan,professo~Tel:(o24)238492,E-mail:yniu@icpm.syb.ac.cn
SupportedbyDOEo{USundeTcontractNo.DE-ACos一76SFooo98andpartlybyNationalNatural
ScienceFoundationolChina(No
M anuscriptreceived2002-11—27.inrevisedofrm 2003-02-21
ABSTRAcT Engineeringalloysofheatresistanceoftengenerateporesatthescale/alloyinterface
duringhightemperatur eoxidation.Theaccumulationandgrowthofthoseporesrgeatlyweakenscale
adhesion.ThepurposeofthisstudyistoobserveporedevelopmentinEe__40%A1fatomicfraction1nad
measurethechangeinporevolumewithoxidationtime.Experimentalresultsarethencompraedtoa
theoreticalcalculationwhereallvacanciesraeallowedtocondenseas voids.Afterremovingtheoxide
scalesformed aftervarioustimesofoxidation at1000 ℃ in oxygen.thealloysur faceWas analyzed
usingscanningelectr
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