电感耦合等离子体原子发射光谱法测定铜_镍_砷高合金渣中铜镍砷.pdfVIP

27 9 V ol . 27, N o . 9 2007 9 M etallur gical A nalysis Sept emb er, 2007 : 1000 - 7571 2007 09- 0067- 0 3 - - 1 2 * 2 , , 11 , 529500; 21 , 524048 : 研究了铜- 镍- 砷高合金渣的分解方法, 采用等离子体原子发射光谱法 ICP- A ES 测 定渣中高含量铜镍砷 果表明, 用盐酸和过氧化氢能完全溶解该合金渣试样分别选择 3241 754 nm , 2211 647 nm 和2281 812 nm 作为分析线, 能有效地消除光谱背景的干扰, 而且谱 线间没有干扰, 渣中其他共存元素对3 元素的测定也没干扰; 直接采用标准溶液建立工作曲 线, 不需要基本匹配, 也不需要进行干扰校正, 且线性关系好, 相关系数分别为: rCu 01999 9 , rN i 01999 7 , rA s 01999 8 方法已用于测定铜- 镍- 砷高合金渣中铜镍砷, 测定 果与化 学法测定 果基本一致 : 铜- 镍- 砷高合金渣, 分解, 电感耦合等离子体原子发射光谱法 : O 6571 3 1 : A , , , : 11000 g/ L ; : , , 991999% , [ 1- 2] [ 2- 3] EDT A - [ 4] 112 - , , : 3 000 V; :017 A; : A A S , 125 mA; : 11 L/ min; : 015 L/ min; , 3 , : 0107 M Pa; : 11 3 mL/ min ; ICP- A ES : 12 mm; : 012 s; , , , [ 5] , - - , , ICP- A ES : Cu , 座机电话号码 nm, - 500 V ; N i, 22 11 647 nm, , - 650 V ; A s, 2281 8 12 nm , - 780 V 113 , 6 g 100 1 100 mL 11 1 , 1 g 6 WLY 100- 1 mL 36 mL , : 2006- 07 - 14 : 1975- , , , , : , , , E- mail: yj n_ shenyang @ 1631 co m 67 27 9 V ol . 27, N o . 9 2007 9 M etallur gical A nalysis Sept emb er, 2007 2 18 mL , 2211 647, 232100 3, 2311 604, 座机电话号码, 座机电话号码, , , 2301 900 nm; A s: 1931759, 1971262, 2281 812, , 200 mL 2001 334, 1891042, 座机电话号码 nm , , 座机电话号码 nm 2211 647 nm, 114 , 21 00 mL , 112 m ol/ L H Cl , ; , 2 1001 00 mL , 251 00 m L 112 , mol/ L H Cl 1001 00 m L 200~ 800 nm , , 3 2281 8 12 nm , , , 112 m ol/ L H Cl, 3 0 , 10100 , 20100 , 40100 , 60100 , 80100 mg/ L , 3 ICP- A ES 3 , , 3 , [ 2, 4] 213 , 3 30% , 90 % , 2 Cu, N i, A s 21 1 , , , , , , 3 [ 6] , : Cu B , , I 1 533154Q+ 588107, r 01 999 9; N i B I , , 2 22910 8Q+ 400124, r 01999 7; A s B I - 4 1301 64Q+ 947194, r 01999 8 [ 7] [ 8] , 3 Cl , [ 9] , H Cl - H 2 O2 - ICP- A ES - - - , 6 , , H 2 O2 , RSD 1, , H 2 O2 3 , 2 2 5 2 H O , , Cu A s N i5 A s2 , , , [ 5] : , [ 1] N or ku s E , No rku s P1 Determinat ion of copper ò in , 3 h electr oless copper plating