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oi2薄膜在汽车外墙中的应用 ti0薄膜的制备 由于较宽的禁带宽度（3.2ev）、高折射、机械强度和稳定的化学性能，ti2薄膜光束剂长期以来一直受到关注。其薄膜材料在紫外光照射下,能产生活泼自由基,自由基能分解有机化合物,具有杀菌和自清洁等作用,在众多领域中具有广泛的应用前景。TiO2薄膜的制备方法很多,主要有溶胶-凝胶法、液相沉积法、前驱物结晶体升华成膜法、电沉积法、微弧氧化法等。采用不同的工艺方法或工艺参数制备的二氧化钛成分、结构等均有所差异。本文对近年来各种TiO2薄膜制备方法的研究进展及其优缺点进行了介绍和比较,并简要阐述其应用领域。 1 ti2自清洁玻璃的制备 1.1 其他有机污染物薄膜 溶胶-凝胶法制备TiO2薄膜是将钛的有机醇盐溶于某种溶剂中,经过水解缩聚反应后形成稳定的溶胶,然后采用适当的成膜技术将溶胶涂覆于基片上,经焙烧而制成TiO2薄膜。常用的有机醇盐有钛酸正丁酯(Ti(OC4H9)4)、钛酸乙酯(Ti(OC2H5)4)和钛酸四异丙酯(Ti(OC3H7)4)等,其中最常用的是钛酸正丁酯。 以乙钛丙酮作为抑制剂,可以控制钛酸丁酯均匀水解,减少水解产物的团聚,在不锈钢基片上制得完整的TiO2薄膜,并且TiO2薄膜与不锈钢基底材料发生了明显的界面扩散反应。常用的成膜技术有浸渍-提拉法、溅射法、离子镀膜法等。其中浸渍-提拉法简单易行,但镀膜不均匀,膜层不易附着;溅射法所得膜层附着力强,膜层纯度高,但需预先制备所需成分的镀材靶;离子镀具有膜层致密、沉积速率高等优点,但所需设备较复杂。 溶胶-凝胶法制备TiO2薄膜的优点是操作简单、所制得的薄膜化学成分均匀、膜孔径小且孔径分布范围窄,还可制备多种氧化物的复合薄膜。但原料成本较高,工艺时间长,干燥、煅烧时凝胶体积收缩大,易造成纳米TiO2薄膜颗粒间的团聚。 1.2 ti2薄膜的制备 用液相沉积法制备TiO2薄膜只需在适当反应液中浸入基片,在基片上就会沉积出氧化物的均一致密的薄膜。其中反应液多以氟钛酸铵为主要原料。将氟钛酸铵的水溶液与硼酸的水溶液混合搅拌均匀得到反应液,将基片浸入其中,在载波片上即可制备透明的TiO2薄膜。用此法制得的TiO2薄膜较为均匀致密、在紫外光照射一定时间后与水完全润湿。 液相沉积法制膜不需热处理,操作简单,可在形状复杂的基片上成膜,在制备功能性薄膜,尤其是微电子行业的超大规模集成电路VLSI及金属-氧化物-半导体MOS中的氧化物薄膜中正得到广泛应用。 1.3 tio42-薄膜的制备 水热法以金属粉末或其无机物为前驱体,在一定反应介质中进行,利用沸水水热处理无定型的薄膜使其转晶而制得优质薄膜。传统的水热法制备TiO2薄膜以钛金属粉末在H2O2中氧化生成的TiO42-溶液为前驱物,其前驱物制备复杂,成本较高。后来发展为以无机物为前驱体,水为反应介质制膜。无机物常用Ti(SO4)2,并配以尿素水溶液作为前驱物,在160℃的水热条件下保温2 h,在玻璃基片上即可制备均匀、致密、无可视缺陷的锐钛矿型TiO2薄膜。 水热法原料易得,降低了制膜成本,制备薄膜在液相中一次完成,不需后期的晶化热处理,避免了薄膜在热处理过程中可能导致的卷曲、开裂、晶粒粗化等缺陷。 1.4 ti2薄膜的制备 利用荷能粒子轰击固体表面(靶)可使固体原子(或分子)从表面射出,这些被溅射出来的原子带有一定的动能,且带有方向性。溅射法应用这一现象将溅射出来的物质沉积到基片表面形成薄膜。制备TiO2薄膜时,用纯钛(99.99%)作为靶,用分压比为2∶1的Ar和O2的混合气体作为反应气体,在5.2 Pa的气压,13.56 MHz频率下,用320W的功率对高纯金属钛靶以石英玻璃为基底进行溅射,得到透明的TiO2薄膜。 溅射法制备的薄膜均匀而且致密,光学性能较优良。 1.5 ti2薄膜的制备 电子束蒸发法是利用聚焦电子束直接对被蒸发材料进行轰击加热,在基片上形成薄膜。制备TiO2薄膜所需的蒸发材料即为Ti。基片放置于真空室内且被加热至300℃,聚焦电子束使Ti蒸发,O2分压为0.6~3×10-4mpa,蒸发速率为0.2~0.8 nm/s,在基片上制备出TiO2薄膜。 用该法可以制备出柱状多孔结构的TiO2薄膜,且表面较为粗糙。 1.6 ti2纳米薄膜的制备 前驱物结晶体升华成膜法制备TiO2薄膜的工艺是使含钛前驱物结晶体以升华的方式均匀的在玻璃表面形成前驱物薄膜,经过热处理来制备TiO2纳米薄膜。其前驱物多为草酸氧钛酸的含钛结晶体,在一定真空度下,将前驱物结晶体加热到250~380℃的温度,使其沉积在玻璃表面形成前驱物薄膜,在一定温度下进行热处理并在520℃左右保温30 min,即可获得玻璃基TiO2薄膜。 用该法可以制得薄膜厚度为80~100 nm,粒度≤50 nm的外观平整透明的TiO2薄膜。