氯氧化锑的合成与结构表征.docxVIP

氯氧化锑的合成与结构表征 在过去10年中，合成精细、规模和形状的有机材料是科学研究领域的热点。在光学、电学、磁学和催化剂方面，材料的许多独特性能不仅依赖于其成分，而且与结构、结晶相、形状、大小和形状的分布密切相关。近年来，能够控制形状和大小的有机纳米引起了人们的注意。特别是，具有预期形状、晶体相位和大小的材料在不同领域有许多潜在的应用前景，引起了研究人员的注意。 在Sb系阻燃材料中, 氯氧化锑 (SbOCl, Sb4O5Cl2, Sb8O11Cl2) 具有优良的阻燃特性, 既可单独作为阻燃剂, 也可以与卤素配合, 发挥阻燃协效的作用.目前, 采用温和简单的溶液法制备氯氧化锑纳米材料的报道还相对较少.研究者采用溶液法和水热法合成了Sb4O5Cl2纳米带, 不同形貌的Sb8O11Cl2晶体, 如纳米带、纳米线、纳米花、纳米线束、纳米带束、纳米片束及空心棱柱, 以及针状的Sb8O11Cl2- (H2O)6微晶.在目前的合成方法中, 仍存在着产物形貌不均匀以及混相等问题. 本文报道了一种在室温下用溶液法合成不同形貌Sb8O11Cl2(H2O)6的简单方法.通过改变NaOH的浓度, 从而改变产物晶体的分裂程度, 实现了最终产物氯氧化锑的形貌从束状、菱形片状、椭圆叶片状, 最后转变成准圆片状的衍变, 并详细分析了相应形貌的转变机理. 1 白色粉末的制备 (ⅰ) 制备方法.本实验所用的试剂都是分析纯.首先, 分别将0.5550 g聚乙烯吡咯烷酮 (PVP, MW58000) 和30 mL 0.033 mol/L SbCl3乙二醇 (EG) 溶液加入圆底烧瓶中, 持续搅拌一段时间后形成无色透明的溶液, 然后再往其中逐滴加入不同浓度的NaOH溶液 (0.25, 0.35, 0.40, 0.45, 0.48和0.50 mol/L) , 连续搅拌5 h, 将上述溶液静置4 h后得到白色的沉淀.利用乙醇多次洗涤样品, 最后将之置于50℃的烘箱内干燥12 h得到白色粉末。 (ⅱ) 实验仪器.用X射线衍射仪 (XRD) 、场发射扫描电子显微镜 (FESEM) 及场发射透射电子显微镜 (FTEM) 对所制备的样品进物相、形貌及微结构进行表征.X射线衍射仪为日本理学公司Rigaku Dmac2200型, 铜靶 (uf06c=1.5416?) , 扫描速度为0.02°/s, 扫描范围为10°～60°.场发射扫描电子显微镜为日本日立公司Hitachi S-4800型, 加速电压为5 kV.透射电子显微镜为日本电子公司JEOL JEM-2100F型, 加速电压为200 kV.利用美国康塔公司NOVA 2200e型比表面孔径分析仪, 在77 K的条件下测试了产物的比表面积, 采用BET法计算比表面积, 而孔容及孔分布则采用BJH方程由脱附曲线进行计算. 2 结果与讨论 2.1 u3000naoh浓度对产物形貌的影响 X射线衍射用来表征样品的化学结构以及物相.如图1所示, 所有样品的衍射峰都能与斜方晶系的Sb8O11Cl2(H2O)6(JCPDS卡片, 编号77-1584) 相对应, 其晶格常数为a=0.9618 nm, b=1.314 nm和c=0.4078 nm.产物X射线衍射峰的强度与标准样品XRD谱图进行对比, 可以用来讨论晶体的生长取向.实验结果表明, 采用不同浓度NaOH得到的不同形貌产物的XRD谱图中, (020) 与 (031) 衍射峰之间的强度比值存在明显变化.在图1 (a) 中, (020) 与 (031) 衍射峰之间的强度比值相比于标准XRD图谱中所对应的强度比值略低 (分别是0.57和0.75) .而从图1 (b) ～ (e) 观察, 随着NaOH浓度的增加, XRD谱图中 (020) 与 (031) 衍射峰之间的强度比值是逐渐增加的 (对应的数值分别是0.62, 0.92, 1.01和3.57) .另外, 在图1 (e) 中, (040) 与 (031) , (060) 与 (031) 衍射峰之间的强度比值较其他谱图中对应的强度比值也明显增加了.这些结果都表明在生长过程中, 晶体具有各向异性的生长, 我们将在后续的讨论中进行论证. 图2是采用不同NaOH浓度得到的产物的SEM图.如图2 (a) 和 (b) 所示, 当NaOH浓度为0.25或0.35mol/L时, 产物皆为束状的氯氧化锑.尽管两者都是所谓的“束状”结构, 顶部和底端都呈扇形发散, 中间则紧密地捆绑在一起, 但产物 (a) 向外扩张的程度明显大于产物 (b) , 而且其长度也长于后者.当NaOH浓度增加至0.40 mol/L时, 产物的形貌是束状向菱形片状过渡的中间结构, 主要为准菱形状, 两端仍有分叉如图2 (c) 所示.继续增加NaOH浓度至0.45 mol/L, 会形成大