投影光刻中相位光栅对准标记变形解决方案.pdfVIP

投影光刻中相位光栅对准标记 变形解决方案 殷履文，盖玉喜 (中国电子科技集 团公司第五十五研究所 ，南京 210016) 摘 要 ：描述 了相位光栅对准法在步进重复投影光刻机 中的运用 ，通过 比较 同轴对准系统和离 轴对准系统的原理 ，工作过程 ，阐述 了当对准标记产生变形 时离轴对准 系统能更好地修正偏差从 而保证光刻工艺中套刻精度的要求。 关键词 ：对准系统；标记；相位光栅 中图分类号 ：TN305．7 文献标识码 ：A 文章编号 ：1004—4507(2011)05-0007—04 AnalysisForSolutiontoDeformedM arkofPhaseGrating AlignmentSystem intheProjectionLithography YIN Lvwen，GAIYuxi (The55thResearchInstituteofCETC，Nanjing210016，China) Abstract：Describedapplicationofphasegratingalignmentsystem inthestep-·and-—repeatprojection lithorgaphy．ThroughcomparingtheprincipleandworkingprocessofTTL (throughthelens)with Off Axisalignmentsystem ，itstatesOffAxisalignmentsystem can eliminatedeviation betterwhen alignmentmark isbecoming deformed，SO itmeetstherequirementofphotolithographicprocessof overlay． Keywords：Alignmentsystem；Mark；Phasergating 相位光栅对准 比较 明场或暗场对准的方法 ， 准 的方法 ，但 是传 统 的TTL (THROUGHTHE 由于受不同工艺层的影响小，信噪比高，对准精度 LENS)同轴对准方式在对准标记发生变形时往往 好等优点，广泛地被用于分步重复投影半导体光 会产生对准偏差从而影响套刻 (overlay)精度，而 刻机中。世界上最大的投影光刻机制造商ASML 结合 OA(OFFAXIS)离轴对准方式则可以有效解 在他们生产的投影光刻机 中都运用了相位光栅对 决这一缺陷。 收稿 日期 ：2011-03．31 电 子 工 业 苣 用 设 备 - 光刻与刻蚀 1 对准标记变形原 因分析 描监视器我们能看到 明暗交替的光栅条纹 。红机 器的对准模块 中专 门有传感器 (Quadcel1)检测这 (1)随着半导体工艺技术的进步，圆片上的线 一 变化 。其原理来 自±l级衍射 Fourier变换后的 条越来越细 ，己进入纳米级。所 以在曝光工艺前涂 光强公式： 在片子上的光刻胶的平整度应尽可能的好，这样 ， sin( )sin2(2耵 ) 在曝光时机器上的找平传感器 (1evelsensor)才能 叮丁一 r十 l ^ 式 中： 为入射光强度 ，尺为反射牢，r为相位 正常工作 。因此在涂胶之前 圆片都要经过抛光处 光栅上部线