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化学机械抛光液

原料配比

原料

配比（质量份）

掺铝二氧化硅（45nm）

18

四丁基氢氧化铵

1.2

孪生季铵盐

0.1

水

余量

制备方法

（1）将掺铝二氧化硅和有机季铵盐加入水中均匀混合，用pH调节剂调节上述溶液至pH为2~4，得浓溶液；

（2）将水加入到上述浓溶液中，水的加入量为浓溶液质量的1~5倍，得化学机械抛光液。

原料配伍本品各组分质量份配比范围为：掺铝二氧化硅6~60、有机季铵盐0.02~18、孪生季铵盐表面活性剂0.005~0.04、水余量。

所述的掺铝二氧化硅作为抛光液中的磨料，粒径较佳的为30~50nm，更佳的为45nm。

所述的有机季铵盐，能提高二氧化硅的去除速率，抑制对氮化硅的去除速率。所述的有机季铵盐较佳的为由四个碳原子数为1~4的烷基取代的有机季铵盐，更佳的为四丁基氢氧化铵、四甲基氢氧化铵和四丁基氟化铵中的一种或多种。

所述孪生季铵盐表面活性剂，能够更好地调节二氧化硅与氮化硅的选择比。

根据工艺实际需要，可向本品的抛光液中添加本领域常规添加的辅助性试剂，较佳的为氨基三亚甲基膦酸、亚氨基二乙酸、多烯多胺、氨三乙酸、十二烷基溴化铵和双胍碱和丙烯酸-2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸共聚物中的一种或多种。这些辅助类试剂能够调节二氧化硅与氮化硅的选择比。

本品的抛光液的pH值较佳的为2~5。

产品应用本品主要用作化学机械抛光液。

产品特性

（1）本品的抛光液对浅沟槽隔离层的划伤小，对二氧化硅的去除速率高，可达1000A/min以上，对氧化硅的去除速率低，两者选择比可达10以上。

（2）本品的抛光液磨料含量低，成本低廉。

参考文献中国专利公告CN－200910053673.2