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浮法在线低辐射玻璃工艺及膜区的设计和改造 0 膜法水处理技术的发展 低辐射玻璃（低辐射玻璃）被称为低辐射玻璃。这是用玻璃表面的低辐射功能膜描绘的一层或几层玻璃。低辐射膜是一种锡或银等金属或其化合物组成的透明导电薄膜,对可见光有良好的透光性,对中远红外线有很高的反射性。玻璃的吸热性低,辐射率就低,玻璃的保温性能就越好。用Low-E玻璃制成中空玻璃作为窗体或幕墙使用时,可以充分体现其保温节能和阳光控制的作用。随着国家节能法规的强有力执行和人们节能环保意识的不断增强,建筑门窗、家用电器、薄膜太阳能电池基板等领域为Low-E玻璃的市场提供了广阔的应用前景。 在上世纪60年代末,欧洲实验室开始研究离线Low-E玻璃技术;1978年美国Interqane将离线LowE玻璃应用到建筑物上;1985年英国Pilkington在线Low-E玻璃实现商业化;2003年瑞士Glas Trosch研制成功硬膜离线Low-E高透过率的阳光控制膜玻璃,但成本比较高;我国1985年引进第一条离线Low-E玻璃线。1999年中国耀华玻璃集团公司开始研究复合材料的气相镀膜技术,于2003年11月开始批量生产4~8 mm厚的在线Low-E玻璃。随后浙江大学蓝星新材料技术有限公司研制出彩色在线浮法Low-E镀膜玻璃。 Low-E玻璃镀膜从生产工艺上可分为“离线”和“在线”两种方法。“离线”系指利用磁控溅射设备,在真空条件下将某种金属或金属氧化物用等离子体轰击,金属从靶表面溅射出来并沉积在玻璃表面成膜。镀膜层是一种以电解质/金属/电解质为主体的多层复合膜,材料主要是银,底层和保护层采用锌、锡或其氧化物。这种方法的优点是镀膜的辐射率比较低,易实现品种多样化。主要缺点是膜层耐磨性差,一般不能单片使用,生产规模小,成本高,难以适用市场的大规模需要。“在线”系指在浮法玻璃生产线上利用高温热解法生产镀膜玻璃,高温热解法又分为热喷涂和化学气相沉积法(CVD),目前,多采用CVD法。一般在热的浮法玻璃表面要镀以掺杂宽禁带半导体(如Sn O2,Ti O2,Zn O等)为主体的多层膜,包括介质膜和功能膜。多层膜的复合使低辐射镀膜玻璃既有低辐射功能,又不产生干涉条纹。该产品膜层牢固、耐磨性好,可夹胶、可单片使用,可见光透射比高,低辐射玻璃的表面辐射率小(0.25以下)。该技术具有生产过程简单、生产成本低、生产效率高、经济效益好的特点。因此,在线Low-E玻璃镀膜技术的应用前景十分广阔。 1 在线低表面玻璃薄膜的制备 浮法在线制备低辐射镀膜玻璃,技术原理是在浮法玻璃生产线锡槽、过渡辊台或退火窑的前端A0区中适合的温度,采用化学汽相沉积(CVD)工艺,将不同配方的镀膜原料以汽态形式,通过镀膜反应器均匀地沉积在高速拉引的玻璃带上表面,气态原料与600~700℃镀膜区的高温玻璃接触,在玻璃表面传输、分解、扩散、沉积,并与玻璃表面的活性基团发生反应后附着在玻璃表面,进而在玻璃表面形成复合膜层。膜层原子可与玻璃原子形成牢固的共价键,随着玻璃的冷却,膜层成为了玻璃的一部分。未反应的气体以及未附着在基板上的气态或固态反应产物,被引导至尾气处理系统进行处理,经高温氧化、化学吸收、过滤等处理后排放入大气。以在A0区镀膜为例,浮法在线Low-E玻璃镀膜的工艺流程如图1所示。 在线Low-E玻璃镀膜技术的核心是:适应大面积连续均匀沉积膜层的反应器、镀膜原料、气化工艺,有效提高氧化锡薄膜导电能力,精确控制每个膜层的光谱性能和光学常数,以实现精密的光学膜系匹配,制造出辐射率低、可见光反射比低、表面色饱和度低、节能效率高的Low-E玻璃。 2 反渗透工艺对制约因素的影响 在线浮法Low-E玻璃镀膜环境直接影响着膜层的质量,所以镀膜工艺对镀膜环境有比较严格的要求。因此设计镀膜区时,必须满足镀膜技术对镀膜区的工艺要求。 2.1 锡槽出口玻璃带横向变化规律 (1)锡槽流道温度(在线热电偶显示值):纵向波动≤1℃。 (2)锡槽收缩段尾端玻璃带横向温差:ΔT≤5℃;横向测点为5点,以玻璃带边部200 mm为第一测点。 (3)锡槽出口锡液温度:605~615℃,纵向波动≤2℃。 (4)锡槽出口玻璃带横向温差:ΔT≤5℃;横向测点为5点,以玻璃带边部200 mm为第一测点。 (5)槽压稳定:低温区、中温区、高温区槽压均≥25 Pa,锡槽两侧均对称设取压点。 2.2 热压与开度可调的调节装置 (1)退火窑A0区镀膜环境要求:A0区需要温度均匀、压力可控、气流稳定。不能出现气流紊乱、窑压不稳、温度场难以控制等现象,以利于镀膜设备的操作,保证浮法玻璃在线镀膜质量。退火窑A0区进口玻璃带温度≥600℃;横向温差≤3℃。横向测点不少于5个,以玻璃带边部200 mm为第一测点。保证镀膜区的温度在600~700℃范围内自由调节。 (2)为减